| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| ·Si纳米线的研究现状 | 第9-12页 |
| ·Si纳米线的制备 | 第9-11页 |
| ·Si纳米线的物理特性 | 第11-12页 |
| ·Si纳米线的器件应用 | 第12-14页 |
| ·本课题的研究意义 | 第14-15页 |
| ·本研究采取的实验方法 | 第15-16页 |
| 第2章 实验方法 | 第16-19页 |
| ·实验方法 | 第16-17页 |
| ·金属催化剂的沉积 | 第16页 |
| ·高温退火 | 第16-17页 |
| ·结构表征 | 第17-19页 |
| ·α-台阶仪测量 | 第17页 |
| ·SEM测试 | 第17页 |
| ·EDS测试 | 第17-18页 |
| ·XRD测试 | 第18页 |
| ·PL测试 | 第18-19页 |
| 第3章 Au催化Si纳米线的固-液-固生长及其结构表征 | 第19-28页 |
| ·不同工艺条件对Si纳米线生长的影响 | 第19-25页 |
| ·Au膜厚度对Si纳米线生长的影响 | 第19-20页 |
| ·退火温度对Si纳米线生长的影响 | 第20-21页 |
| ·N2气流量对Si纳米线生长的影响 | 第21-22页 |
| ·生长时间对Si纳米线生长的影响 | 第22-23页 |
| ·不同气体对Si纳米线生长的影响 | 第23-24页 |
| ·不同衬底对Si纳米线生长的影响 | 第24-25页 |
| ·Si纳米线的结构表征 | 第25-28页 |
| ·Si纳米线的XRD和EDS表征 | 第25-27页 |
| ·Si 纳米线的 PL 特性 | 第27-28页 |
| 第4章 Al催化Si纳米线的固-液-固生长及其结构表征 | 第28-35页 |
| ·不同工艺条件对Si纳米线生长的影响 | 第28-32页 |
| ·退火温度对Si纳米线生长的影响 | 第28-29页 |
| ·Al膜厚度对Si纳米线生长的影响 | 第29页 |
| ·不同气体对Si纳米线生长的影响 | 第29-30页 |
| ·Ar气流量对Si纳米线生长的影响 | 第30-31页 |
| ·表面粗糙度对Si纳米线生长的影响 | 第31-32页 |
| ·不同衬底对Si纳米线生长的影响 | 第32页 |
| ·Si纳米线的结构表征 | 第32-35页 |
| ·Si纳米线的XRD和EDS表征 | 第32-34页 |
| ·Si纳米线的PL特性 | 第34-35页 |
| 第5章 Si纳米线的SLS生长机制分析 | 第35-43页 |
| ·Si纳米线的SLS生长机制 | 第35-41页 |
| ·二元相图 | 第35页 |
| ·SLS生长机制分析 | 第35-40页 |
| ·SLS生长机制与VLS生长机制的区别 | 第40-41页 |
| ·Si纳米线的可控生长 | 第41-43页 |
| 第6章 结论 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 硕士研究生在读期间发表的论文 | 第50页 |