| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-18页 |
| 1-1 研究背景与研究动机 | 第9-13页 |
| 1-2 本文基本框架 | 第13-15页 |
| 参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 半导体纳米结构光学微腔体系 | 第18-35页 |
| 2-1 纳米结构光学微腔发展概述 | 第18-25页 |
| 2-1.1 法布里—珀罗微腔(FP微腔) | 第20-23页 |
| 2-1.2 回音壁微腔(WG微腔) | 第23-25页 |
| 2-1.3 三维限制多面体纳米颗粒微腔 | 第25页 |
| 2-2 ZnO纳米材料的结构、光学性质及微腔应用 | 第25-29页 |
| 2-3 In_2O_3纳米材料的结构、光学性质及微腔应用 | 第29-32页 |
| 参考文献 | 第32-35页 |
| 第三章 纳米结构的制备与表征 | 第35-59页 |
| 3-1 纳米结构单元及生长机制 | 第35-42页 |
| 3-1.1 纳米结构单元分类 | 第35-38页 |
| 3-1.2 生长机制 | 第38-42页 |
| 3-2 ZnO、In_2O_3纳米结构制备方法及其进展 | 第42-46页 |
| 3-3 材料生长设备与表征技术 | 第46-54页 |
| 3-3-1 材料生长设备 | 第46-47页 |
| 3-3-2 样品结构、形貌、组成分析 | 第47-51页 |
| 3-3-2.1 X-射线衍射仪 | 第47-48页 |
| 3-3-2.2 扫描电子显微镜 | 第48-50页 |
| 3-3-2.3 X-射线能谱仪 | 第50页 |
| 3-3-2.4 透射电子显微镜 | 第50-51页 |
| 3-3-3 共焦显微荧光光谱系统 | 第51-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 第四章 单晶ZnO纳米管光学微腔 | 第59-83页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| 4-2 制备方法 | 第60-61页 |
| 4-3 样品形貌、结构和生长机理分析 | 第61-68页 |
| 4-4 ZnO纳米管荧光光谱的腔模调制及其激射效应 | 第68-78页 |
| 4-5 小结 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 第五章 单晶六角截面In_2O_3纳米线回音壁光学微腔 | 第83-94页 |
| 5-1 引言 | 第83页 |
| 5-2 制备方法 | 第83-84页 |
| 5-3 样品的形貌、结构和生长机制分析 | 第84-87页 |
| 5-4 In_2O_3纳米线回音壁微腔对光场的调制效应 | 第87-92页 |
| 5-5 小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-94页 |
| 第六章 单晶ZnO多层FP微腔和In_2O_3多面体垂直FP微腔 | 第94-115页 |
| 6-1 引言 | 第94页 |
| 6-2 单晶ZnO多层FP微腔 | 第94-103页 |
| 6-2.1 制备方法 | 第95页 |
| 6-2.2 样品形貌、结构和生长机理分析 | 第95-98页 |
| 6-2.3 ZnO多层FP微腔对光场的调制及其激射研究 | 第98-103页 |
| 6-3 单晶In_2O_3多面体垂直FP微腔 | 第103-111页 |
| 6-3.1 制备方法 | 第103-104页 |
| 6-3.2 样品形貌、结构和生长机理分析 | 第104-106页 |
| 6-3.3 In_2O_3多面体垂直FP微腔对光场的调制及理论分析 | 第106-111页 |
| 6-4 小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第七章 单晶In_2O_3八面体光学微腔 | 第115-128页 |
| 7-1 引言 | 第115-116页 |
| 7-2 制备方法 | 第116-117页 |
| 7-3 样品的形貌、结构和生长机理分析 | 第117-120页 |
| 7-4 In_2O_3八面体光学微腔对光场的调制及共振模型分析 | 第120-124页 |
| 7-5 小结 | 第124-126页 |
| 参考文献 | 第126-128页 |
| 第八章 总结与展望 | 第128-131页 |
| 博士期间发表的论文 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
