摘要 | 第9-11页 |
ABSTRACT | 第11-12页 |
第一章 绪论 | 第13-22页 |
1.1 KDP/DKDP晶体的研究背景及意义 | 第13-16页 |
1.1.1 KDP/DKDP晶体的结构与性质 | 第13-15页 |
1.1.2 KDP晶体的用途与惯性约束核聚变 | 第15-16页 |
1.2 KDP晶体非线性吸收研究现状 | 第16-18页 |
1.2.1 非线性光吸收 | 第16页 |
1.2.2 光学材料的非线性吸收研究 | 第16-17页 |
1.2.3 KDP晶体非线性吸收研究现状 | 第17-18页 |
1.3 本论文的工作 | 第18-19页 |
参考文献 | 第19-22页 |
第二章 传统法生长KDP晶体的非线性吸收均匀性 | 第22-35页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 KDP晶体样品制备 | 第22-25页 |
2.3 Z-扫描装置和原理 | 第25-27页 |
2.3.1 Z-扫描装置 | 第25-26页 |
2.3.2 非线性吸收的Z-扫描理论 | 第26-27页 |
2.3.3 Z-扫描的测试条件 | 第27页 |
2.4 不同部位对传统生长KDP晶体非线性吸收影响的研究 | 第27-30页 |
2.4.1 z向上,生长部位对KDP晶体非线性吸收的影响 | 第27-29页 |
2.4.2 Ⅱ类方向上,生长部位对KDP晶体非线性吸收的影响 | 第29-30页 |
2.5 讨论 | 第30-31页 |
2.6 本章小结 | 第31-33页 |
参考文献 | 第33-35页 |
第三章 快速生长KDP晶体的非线性吸收均匀性 | 第35-52页 |
3.1 引言 | 第35-36页 |
3.2 KDP晶体样品制备 | 第36-38页 |
3.3 λ=532nm,σ=3% KDP晶体扇形区非线性吸收的研究 | 第38-42页 |
3.3.1 λ=532nm,σ=3%,Ⅱ类样品扇形区非线性吸收的研究 | 第39-40页 |
3.3.2 λ=532nm,σ=3%,z向样品扇形区非线性吸收的研究 | 第40-42页 |
3.4 λ=532nm,过饱和度σ=5%,7%,9% KDP晶体扇形区非线性吸收的研究 | 第42-48页 |
3.4.1 λ=532nm,σ=5%,KDP晶体扇形区非线性吸收的研究 | 第42-44页 |
3.4.2 λ=532nm,σ=7%,KDP晶体扇形区非线性吸收的研究 | 第44-45页 |
3.4.3 λ=532nm,σ=9%,KDP晶体扇形区非线性吸收的研究 | 第45-48页 |
3.5 讨论 | 第48页 |
3.6 本章小结 | 第48-50页 |
参考文献 | 第50-52页 |
第四章 Fe~(3+)掺杂对KDP晶体扇形区非线性吸收影响的研究 | 第52-64页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 样品制备 | 第52-53页 |
4.3 Fe~(3+)掺杂对KDP晶体扇形区不同位置非线性吸收的影响 | 第53-59页 |
4.3.1 5ppmFe~(3+)掺杂对快速生长KDP晶体扇形区不同位置非线性吸收的影响 | 第54-55页 |
4.3.2 10ppmFe~(3+)和15ppmFe~(3+)掺杂对快速生长KDP晶体扇形区不同位置非线性吸收的影响 | 第55-59页 |
4.4 讨论 | 第59-61页 |
4.5 本章小结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
5.1 主要结论 | 第64-65页 |
5.2 主要创新点 | 第65页 |
5.3 有待进一步开展的工作 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第67页 |