| 摘要 | 第13-15页 |
| Abstract | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第17-42页 |
| 1.1 CO_2还原研究 | 第17-18页 |
| 1.2 电催化CO_2还原影响因素及存在问题 | 第18-27页 |
| 1.2.1 电解液 | 第18页 |
| 1.2.2 CO_2压强 | 第18-19页 |
| 1.2.3 电极材料 | 第19-26页 |
| 1.2.4 失活研究 | 第26-27页 |
| 1.3 金属电极上电化学还原CO_2的机理 | 第27-29页 |
| 1.4 铜基催化剂电催化还原CO_2研究进展 | 第29-34页 |
| 1.4.1 铜基修饰电极 | 第29-32页 |
| 1.4.2 铜纳米电极 | 第32-34页 |
| 1.5 本论文的研究目的与研究设想 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-42页 |
| 第二章 实验 | 第42-49页 |
| 2.1 试剂与溶液 | 第42-43页 |
| 2.2 物理性质表征 | 第43-45页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第43-44页 |
| 2.2.2 透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第44页 |
| 2.2.3 X射线衍射仪XRD | 第44-45页 |
| 2.2.4 在线气相色谱 | 第45页 |
| 2.2.5 核磁共振波谱仪 | 第45页 |
| 2.3 电化学体系 | 第45-48页 |
| 2.3.1 CO_2还原装置 | 第45-46页 |
| 2.3.2 电极及表面处理 | 第46页 |
| 2.3.3 电化学实验 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 第三章 过渡金属修饰的氧化-还原铜的制备及其电催化CO_2还原的性能 | 第49-77页 |
| 3.1 oxide-derived铜的制备及修饰 | 第50-61页 |
| 3.1.1 300℃ oxide-derived铜的制备及表征 | 第50-53页 |
| 3.1.2 300℃ oxide-derived铜的修饰和表征 | 第53-56页 |
| 3.1.3 400℃ oxide-derived铜的制备及表征 | 第56-58页 |
| 3.1.4 400℃ oxide-derived铜的修饰和表征 | 第58-61页 |
| 3.2 修饰后oxide-derived铜电催化CO_2还原研究 | 第61-74页 |
| 3.2.1 修饰前后300℃ oxide-derived Cu线性扫描伏安曲线(LSV)的测定 | 第61-63页 |
| 3.2.2 修饰后300℃ oxide-derived Cu在不同电位下电催化CO_2还原的影响 | 第63-69页 |
| 3.2.3 修饰前后400℃ oxide-derived Cu线性扫描伏安曲线(LSV)的测定 | 第69-70页 |
| 3.2.4 Pb修饰的400℃ oxide-derived Cu在不同电位下电催化CO_2还原 | 第70-74页 |
| 3.3 本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 第四章 Cu二十四面体的修饰及其电催化还原CO_2性能研究 | 第77-93页 |
| 4.1 铜二十四面体的制备及过程探究 | 第77-82页 |
| 4.1.1 铜二十四面体的制备及表征 | 第77-79页 |
| 4.1.2 THH Cu制备过程探究 | 第79-82页 |
| 4.2 Pd在Cu二十四面体上的修饰 | 第82-83页 |
| 4.3 Pd修饰THH Cu的CO_2还原性能研究 | 第83-90页 |
| 4.3.1 线性扫描伏安曲线的测定 | 第83-84页 |
| 4.3.2 不同电位下CO_2还原研究 | 第84-89页 |
| 4.3.3 反应前后粒子变化 | 第89-90页 |
| 4.4 本章小结 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-93页 |
| 结论与展望 | 第93-95页 |
| 作者攻读硕士期间发表与交流的论文 | 第95-96页 |
| 致谢 | 第96页 |
