| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 光催化技术 | 第12-17页 |
| 1.1.1 光催化技术简述 | 第12页 |
| 1.1.2 光催化机理 | 第12-14页 |
| 1.1.3 光催化技术的应用 | 第14-15页 |
| 1.1.4 影响材料光催化活性的因素 | 第15-16页 |
| 1.1.5 光催化体系 | 第16-17页 |
| 1.2 氮化碳(g-C_3N_4) | 第17-21页 |
| 1.2.1 g-C_3N_4研究历史 | 第17页 |
| 1.2.2 g-C_3N_4的性质 | 第17-19页 |
| 1.2.3 g-C_3N_4的应用 | 第19-20页 |
| 1.2.4 g-C_3N_4的改性 | 第20-21页 |
| 1.3 选题意义及研究内容 | 第21-23页 |
| 1.3.1 选题意义 | 第21页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 WO_(3-x)改性g-C_3N_4材料的制备及其光催化性能的研究 | 第23-40页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 试剂及设备 | 第23-24页 |
| 2.3 制备WO_(3-x)改性g-C_3N_4 | 第24-27页 |
| 2.3.1 材料制备 | 第24-25页 |
| 2.3.2 表征测试 | 第25页 |
| 2.3.3 光催化实验 | 第25-26页 |
| 2.3.4 光催化机理探究实验 | 第26-27页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第27-39页 |
| 2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第27页 |
| 2.4.2 傅里叶红外变换光谱(FT-IR) | 第27-28页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第28-30页 |
| 2.4.4 扫描电子显微镜(SEM)与透射电子显微镜(TEM) | 第30-31页 |
| 2.4.5 N_2吸附脱附等温线(N_2Adsorption-desorptionisotherms) | 第31-32页 |
| 2.4.6 紫外可见漫反射(UV-visDRS) | 第32-34页 |
| 2.4.7 荧光光谱(PL) | 第34页 |
| 2.4.8 光催化活性研究 | 第34-35页 |
| 2.4.9 光催化机理 | 第35-39页 |
| 2.5 本章结论 | 第39-40页 |
| 第三章 SiC改性g-C_3N_4材料的制备及其光催化性能的研究 | 第40-55页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 复合催化剂SiC-g-C_3N_4制备及光催化活性测试 | 第40-43页 |
| 3.2.1 试剂及设备 | 第40-41页 |
| 3.2.2 实验部分 | 第41-43页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第43-54页 |
| 3.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第43-44页 |
| 3.3.2 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第44-46页 |
| 3.3.3 傅里叶红外变换(FT-IR) | 第46页 |
| 3.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第46-47页 |
| 3.3.5 紫外可见漫反射(UV-visDRS)和荧光光谱(PL) | 第47-49页 |
| 3.3.6 光催化性能测试 | 第49-51页 |
| 3.3.7 光催化机理 | 第51-54页 |
| 3.4 本章结论 | 第54-55页 |
| 第四章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 4.1 结论 | 第55页 |
| 4.2 展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-70页 |
| 在读期间公开发表的论文和承担科研项目及取得成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
