| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 纳滤技术概述 | 第13-16页 |
| 1.1.1 纳滤膜技术的分离机理 | 第13-14页 |
| 1.1.2 纳滤膜性能影响因素 | 第14页 |
| 1.1.3 纳滤膜的制备方法 | 第14-16页 |
| 1.1.4 纳滤膜的分离机理 | 第16页 |
| 1.2 纳滤膜的抗污染研究动态 | 第16-18页 |
| 1.2.1 纳滤膜污染机理 | 第16-17页 |
| 1.2.2 纳滤膜亲水改性及抗污染性能 | 第17-18页 |
| 1.3 疏松纳滤膜分离技术在染料废水处理中的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 抑菌型纳滤膜的研究 | 第19-20页 |
| 1.5 氧化石墨烯分离膜的研究进展 | 第20-22页 |
| 1.5.1 氧化石墨烯材料的简介与制备方法 | 第20-21页 |
| 1.5.2 氧化石墨烯膜在层间距的调控 | 第21-22页 |
| 1.6 本课题研究的目的和意义 | 第22-23页 |
| 1.7 本课题研究的主要内容 | 第23-24页 |
| 1.8 课题来源 | 第24-25页 |
| 第2章 实验部分 | 第25-37页 |
| 2.1 实验材料与设备 | 第25-27页 |
| 2.1.1 实验材料与试剂 | 第25-26页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第26-27页 |
| 2.2 GA@PEI疏松纳滤复合膜的制备 | 第27-28页 |
| 2.2.1 聚丙烯腈基膜预处理 | 第27页 |
| 2.2.2 静电组装法制备GA@PEI疏松纳滤膜 | 第27-28页 |
| 2.3 多酚/多肽共沉积表面聚乙二醇化制备复合疏松纳滤膜 | 第28-29页 |
| 2.3.1 聚丙烯腈基膜预处理 | 第28页 |
| 2.3.2 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤复合膜的制备 | 第28-29页 |
| 2.4 改性超滤膜表面原位生长Co/Ni水滑石制备疏松纳滤膜 | 第29-30页 |
| 2.4.1 聚丙烯腈基膜预处理 | 第29页 |
| 2.4.2 Co/NiLDHs疏松纳滤复合膜的制备 | 第29-30页 |
| 2.5 可调控层间距的氧化石墨烯薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.5.1 氧化石墨烯薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.6 表征方法 | 第31-33页 |
| 2.6.1 扫描电子显微镜(SEM)和X射线能量色散谱仪(EDX) | 第31页 |
| 2.6.2 透射电子显微镜(TEM) | 第31页 |
| 2.6.3 原子力显微镜(AFM) | 第31-32页 |
| 2.6.4 X射线衍射(XRD) | 第32页 |
| 2.6.5 红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱分析(XPS) | 第32页 |
| 2.6.6 接触角测定仪(Contactangle) | 第32页 |
| 2.6.7 Zeta电位测定 | 第32页 |
| 2.6.8 核磁共振光谱(~1HNMR) | 第32页 |
| 2.6.9 激光共聚焦扫描显微镜(CLSM) | 第32-33页 |
| 2.7 纳滤性能的评价及装置 | 第33-37页 |
| 2.7.1 纳滤的评价装置 | 第33页 |
| 2.7.2 纳滤性能的计算方法 | 第33-34页 |
| 2.7.3 抗菌性能表征 | 第34-35页 |
| 2.7.4 氧化石墨烯膜传质机理的模拟计算 | 第35-37页 |
| 第3章 GA@PEI疏松纳滤复合膜的制备及其分离性能研究 | 第37-45页 |
| 3.1 GA@PEI疏松纳滤膜表面性质与微观形貌的表征 | 第37-41页 |
| 3.1.1 GA@PEI疏松纳滤膜红外光谱(FTIR)和核磁共振(~1HNMR)表征 | 第37-38页 |
| 3.1.2 GA@PEI疏松纳滤膜表面接触角表征以及zeta电位对盐截留性能 | 第38-39页 |
| 3.1.3 GA@PEI疏松纳滤膜扫描电镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)表征 | 第39-41页 |
| 3.2 GA@PEI疏松纳滤膜分离性能的研究 | 第41-44页 |
| 3.2.1 不同制备条件对GA@PEI疏松纳滤膜分离性能的影响 | 第41-43页 |
| 3.2.2 GA@PEI疏松纳滤膜的抗污染性能与长期稳定性 | 第43-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 多酚/多肽共沉积表面聚乙二醇化制备复合疏松纳滤膜及其分离性能研究 | 第45-59页 |
| 4.1 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤复合膜表面性质与微观形貌的表征 | 第45-50页 |
| 4.1.1 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜红外光谱(FTIR)和X射线光电子能谱分析(XPS)表征 | 第45-46页 |
| 4.1.2 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜表面接触角与zeta电位的测定 | 第46-48页 |
| 4.1.3 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜微观形貌的表征 | 第48-50页 |
| 4.2 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤复合膜的分离性能 | 第50-56页 |
| 4.2.1 不同制备条件对PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜分离性能的影响 | 第50-51页 |
| 4.2.2 不同操作条件PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜分离性能的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.3 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜的抗污染性能与长期稳定性 | 第52-54页 |
| 4.2.4 PG/ε-PL/4-arm-PEG疏松纳滤膜的抗菌性能 | 第54-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-59页 |
| 第5章 改性超滤膜表面原位生长Co/Ni水滑石制备疏松纳滤膜 | 第59-69页 |
| 5.1 Co/NiLDHs疏松纳滤膜表面性质与微观形貌的表征 | 第59-64页 |
| 5.1.1 Co/NiLDHs疏松纳滤膜X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱分析(XPS)表征 | 第59-60页 |
| 5.1.2 Co/NiLDHs疏松纳滤膜表面接触角以及zeta电位 | 第60-61页 |
| 5.1.3 Co/NiLDHs疏松纳滤膜微观形貌的表征 | 第61-64页 |
| 5.2 Co/NiLDHs疏松纳滤膜分离性能的研究 | 第64-67页 |
| 5.2.1 不同制备条件对Co/NiLDHs疏松纳滤膜分离性能的影响 | 第64-66页 |
| 5.2.2 Co/NiLDHs疏松纳滤膜的抗污染性能与长期稳定性 | 第66-67页 |
| 5.3 本章小结 | 第67-69页 |
| 第6章 可调控层间距的氧化石墨烯薄膜的制备 | 第69-81页 |
| 6.1 氧化石墨烯薄膜表面性质与微观形貌的表征 | 第69-76页 |
| 6.1.1 氧化石墨烯薄膜微观形貌的表征 | 第69-72页 |
| 6.1.2 氧化石墨烯薄膜X射线光电子能谱分析(XPS)表征 | 第72-74页 |
| 6.1.3 氧化石墨烯层间距的测定 | 第74-76页 |
| 6.2 氧化石墨烯薄膜的过滤性能探究 | 第76-77页 |
| 6.2.1 氧化石墨烯薄膜的过滤性能探究 | 第76-77页 |
| 6.3 氧化石墨烯膜传质机理的模拟计算 | 第77-79页 |
| 6.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 结论 | 第81-83页 |
| 1.结论 | 第81-82页 |
| 2.建议 | 第82页 |
| 3.创新点 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
