| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.1.1 NO_2的危害 | 第12页 |
| 1.1.2 H2S的危害 | 第12-13页 |
| 1.2 MOS型气敏传感器 | 第13-16页 |
| 1.2.1 MOS材料的气敏机理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 SnO_2气敏传感器 | 第14-16页 |
| 1.3 MOS材料气敏性能的提升措施 | 第16-23页 |
| 1.3.1 工作温度的控制 | 第16-17页 |
| 1.3.2 化学掺杂 | 第17-18页 |
| 1.3.3 构建多级结构 | 第18-23页 |
| 1.4 静电纺丝制备一维纳米结构 | 第23-27页 |
| 1.4.1 静电纺丝的原理 | 第25-26页 |
| 1.4.2 静电纺丝的应用 | 第26-27页 |
| 1.5 本课题的目的及研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 Ni掺杂SnO_2纳米纤维的制备及NO_2气敏性能研究 | 第29-46页 |
| 2.1 样品制备 | 第30-34页 |
| 2.1.1 实验试剂及仪器 | 第30-32页 |
| 2.1.2 纳米纤维合成 | 第32-33页 |
| 2.1.3 气敏器件制备 | 第33-34页 |
| 2.2 表征测试 | 第34-39页 |
| 2.2.1 TG-DSC分析 | 第34-35页 |
| 2.2.2 XRD分析 | 第35-36页 |
| 2.2.3 SEM分析 | 第36-38页 |
| 2.2.4 TEM分析 | 第38页 |
| 2.2.5 XPS分析 | 第38-39页 |
| 2.3 性能测试及结果讨论 | 第39-45页 |
| 2.3.1 测试原理 | 第39-40页 |
| 2.3.2 测试流程 | 第40-41页 |
| 2.3.3 性能分析 | 第41-44页 |
| 2.3.4 规律总结 | 第44-45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 Ni掺杂SnO_2纳米纤维阵列的制备及NO_2气敏性能研究 | 第46-71页 |
| 3.1 样品制备 | 第47-51页 |
| 3.1.1 实验试剂及仪器 | 第47-49页 |
| 3.1.2 纳米纤维阵列合成 | 第49-50页 |
| 3.1.3 气敏器件制备 | 第50-51页 |
| 3.2 表征测试 | 第51-55页 |
| 3.2.1 SEM分析 | 第51-52页 |
| 3.2.2 TEM分析 | 第52-53页 |
| 3.2.3 XRD分析 | 第53页 |
| 3.2.4 XPS分析 | 第53-55页 |
| 3.3 性能测试及结果讨论 | 第55-69页 |
| 3.3.1 测试流程 | 第55-56页 |
| 3.3.2 性能分析 | 第56-64页 |
| 3.3.3 机理研究 | 第64-69页 |
| 3.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第四章 n-p复合型SnO_2-NiO纳米纤维的制备及H2S气敏性能研究 | 第71-83页 |
| 4.1 样品制备 | 第72-75页 |
| 4.1.1 实验试剂及仪器 | 第72-73页 |
| 4.1.2 复合型纳米纤维合成 | 第73-74页 |
| 4.1.3 气敏器件制备 | 第74-75页 |
| 4.2 表征测试 | 第75-79页 |
| 4.2.1 XRD分析 | 第75-76页 |
| 4.2.2 SEM分析 | 第76-78页 |
| 4.2.3 TEM分析 | 第78-79页 |
| 4.3 性能测试及结果讨论 | 第79-81页 |
| 4.3.1 测试流程 | 第79页 |
| 4.3.2 性能分析 | 第79-81页 |
| 4.3.3 规律总结 | 第81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-83页 |
| 第五章 总结与展望 | 第83-85页 |
| 5.1 总结 | 第83页 |
| 5.2 展望 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-94页 |
| 附录一 Ni掺杂SnO_2纳米纤维的STEM形貌与元素面扫 | 第94-95页 |
| 附录二 攻读硕士硕士学位期间发表的论文目录 | 第95页 |
