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静电纺丝Ni掺杂SnO2纳米纤维的气敏性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第12-29页
    1.1 研究背景第12-13页
        1.1.1 NO_2的危害第12页
        1.1.2 H2S的危害第12-13页
    1.2 MOS型气敏传感器第13-16页
        1.2.1 MOS材料的气敏机理第13-14页
        1.2.2 SnO_2气敏传感器第14-16页
    1.3 MOS材料气敏性能的提升措施第16-23页
        1.3.1 工作温度的控制第16-17页
        1.3.2 化学掺杂第17-18页
        1.3.3 构建多级结构第18-23页
    1.4 静电纺丝制备一维纳米结构第23-27页
        1.4.1 静电纺丝的原理第25-26页
        1.4.2 静电纺丝的应用第26-27页
    1.5 本课题的目的及研究内容第27-29页
第二章 Ni掺杂SnO_2纳米纤维的制备及NO_2气敏性能研究第29-46页
    2.1 样品制备第30-34页
        2.1.1 实验试剂及仪器第30-32页
        2.1.2 纳米纤维合成第32-33页
        2.1.3 气敏器件制备第33-34页
    2.2 表征测试第34-39页
        2.2.1 TG-DSC分析第34-35页
        2.2.2 XRD分析第35-36页
        2.2.3 SEM分析第36-38页
        2.2.4 TEM分析第38页
        2.2.5 XPS分析第38-39页
    2.3 性能测试及结果讨论第39-45页
        2.3.1 测试原理第39-40页
        2.3.2 测试流程第40-41页
        2.3.3 性能分析第41-44页
        2.3.4 规律总结第44-45页
    2.4 本章小结第45-46页
第三章 Ni掺杂SnO_2纳米纤维阵列的制备及NO_2气敏性能研究第46-71页
    3.1 样品制备第47-51页
        3.1.1 实验试剂及仪器第47-49页
        3.1.2 纳米纤维阵列合成第49-50页
        3.1.3 气敏器件制备第50-51页
    3.2 表征测试第51-55页
        3.2.1 SEM分析第51-52页
        3.2.2 TEM分析第52-53页
        3.2.3 XRD分析第53页
        3.2.4 XPS分析第53-55页
    3.3 性能测试及结果讨论第55-69页
        3.3.1 测试流程第55-56页
        3.3.2 性能分析第56-64页
        3.3.3 机理研究第64-69页
    3.4 本章小结第69-71页
第四章 n-p复合型SnO_2-NiO纳米纤维的制备及H2S气敏性能研究第71-83页
    4.1 样品制备第72-75页
        4.1.1 实验试剂及仪器第72-73页
        4.1.2 复合型纳米纤维合成第73-74页
        4.1.3 气敏器件制备第74-75页
    4.2 表征测试第75-79页
        4.2.1 XRD分析第75-76页
        4.2.2 SEM分析第76-78页
        4.2.3 TEM分析第78-79页
    4.3 性能测试及结果讨论第79-81页
        4.3.1 测试流程第79页
        4.3.2 性能分析第79-81页
        4.3.3 规律总结第81页
    4.4 本章小结第81-83页
第五章 总结与展望第83-85页
    5.1 总结第83页
    5.2 展望第83-85页
致谢第85-86页
参考文献第86-94页
附录一 Ni掺杂SnO_2纳米纤维的STEM形貌与元素面扫第94-95页
附录二 攻读硕士硕士学位期间发表的论文目录第95页

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