| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 热阴极X射线管的发展与存在的问题 | 第10-11页 |
| 1.3 碳纳米管微焦点X射线技术的发展 | 第11-13页 |
| 第二章 碳纳米管及其场发射机理 | 第13-21页 |
| 2.1 碳纳米管的基础 | 第13-17页 |
| 2.1.1 碳纳米管的结构 | 第13-14页 |
| 2.1.2 碳纳米管的性能 | 第14-15页 |
| 2.1.3 碳纳米管的应用 | 第15-16页 |
| 2.1.4 碳纳米管的制备方法 | 第16-17页 |
| 2.2 场发射机理 | 第17-21页 |
| 第三章 直接生长法制备碳纳米管阴极 | 第21-35页 |
| 3.1 阳极化技术 | 第21-23页 |
| 3.1.1 实验仪器与设置 | 第22页 |
| 3.1.2 化学试剂 | 第22页 |
| 3.1.3 阳极化实验流程 | 第22-23页 |
| 3.2 碳纳米管阴极的制备 | 第23-24页 |
| 3.2.1 实验仪器与设备 | 第23-24页 |
| 3.2.2 直接生长法制备碳纳米管的实验过程 | 第24页 |
| 3.3 碳纳米管阴极的结构表征与场发射性能试验方法 | 第24-26页 |
| 3.3.1 场发射扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 3.3.2 透射电子显微镜 | 第25页 |
| 3.3.3 场发射测试系统 | 第25-26页 |
| 3.4 碳纳米管阴极的结构、性能测试结果与分析 | 第26-33页 |
| 3.4.1 直接生长法制备的碳纳米管与镀催化剂生长的性能对比 | 第26-28页 |
| 3.4.2 大面积场发射阴极 | 第28-30页 |
| 3.4.3 碳纳米管点电子源阴极 | 第30-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 碳纳米管冷阴极X射线管的设计与成像特性 | 第35-49页 |
| 4.1 仿真软件Opera3D介绍 | 第35页 |
| 4.2 冷阴极X射线管的结构设计 | 第35-40页 |
| 4.2.1 栅极电压对电子束的影响 | 第36-37页 |
| 4.2.2 聚焦极电压对电子束的影响 | 第37-38页 |
| 4.2.3 阳极电压对电子束的影响 | 第38-40页 |
| 4.3 X射线测试与防护系统设计 | 第40-41页 |
| 4.4 成像特性 | 第41-47页 |
| 4.4.1 X射线胶片成像原理 | 第41-42页 |
| 4.4.2 胶片成像设备与成像实验过程 | 第42-43页 |
| 4.4.3 胶片成像结果讨论 | 第43-45页 |
| 4.4.4 数字平板成像 | 第45-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 5.1 总结 | 第49-50页 |
| 5.2 展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 攻读硕士期间发表的论文目录 | 第57-58页 |
| 附件 | 第58页 |