| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-32页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·磁性纳米材料 | 第15-17页 |
| ·磁性纳米材料的发展 | 第15-16页 |
| ·磁性纳米材料的应用 | 第16-17页 |
| ·飞秒激光泵浦-探测技术 | 第17-23页 |
| ·飞秒激光的发展和应用 | 第17-20页 |
| ·飞秒激光泵浦-探测技术 | 第20-23页 |
| ·国内外研究进展 | 第23-30页 |
| ·国外研究进展 | 第23-29页 |
| ·国内研究进展 | 第29-30页 |
| ·论文的研究意义及主要内容 | 第30-32页 |
| 第二章 超快动力学过程理论基础 | 第32-44页 |
| ·超快动力学过程及其理论 | 第32-36页 |
| ·金属受光激发后的非平衡过程 | 第32-35页 |
| ·铁磁薄膜受光激发后的非平衡过程 | 第35-36页 |
| ·超快动力学过程理论分析方法 | 第36-39页 |
| ·Boltzmann输运理论简介 | 第37-38页 |
| ·量子分子动力学方法简介 | 第38-39页 |
| ·理论模型分析 | 第39-43页 |
| ·热波模型 | 第39页 |
| ·双相延迟模型 | 第39-40页 |
| ·双温两步模型 | 第40-41页 |
| ·三温模型 | 第41-42页 |
| ·其他相关模型 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 钴薄膜样品的制备与表征 | 第44-56页 |
| ·钴薄膜样品的制备 | 第44-48页 |
| ·磁控溅射镀膜技术及设备 | 第44-45页 |
| ·钴薄膜样品的镀膜 | 第45-47页 |
| ·钴薄膜样品的热处理 | 第47-48页 |
| ·钴薄膜样品的表征 | 第48-55页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第48-51页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第51-54页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 钴薄膜超快动力学过程实验研究 | 第56-76页 |
| ·飞秒瞬态热反射技术 | 第56-60页 |
| ·飞秒瞬态热反射技术的实现原理 | 第56-57页 |
| ·反射率变化的测量过程 | 第57-59页 |
| ·反射率与温度的函数关系 | 第59-60页 |
| ·飞秒瞬态热反射实验系统的建立与调节 | 第60-65页 |
| ·实验系统的建立 | 第60-62页 |
| ·信号采集系统 | 第62-63页 |
| ·实验系统零点的标定 | 第63-64页 |
| ·实验系统的降噪调节 | 第64-65页 |
| ·钴薄膜的瞬态反射率变化特性 | 第65-71页 |
| ·薄膜厚度对瞬态反射率的影响 | 第65-66页 |
| ·退火处理对瞬态反射率的影响 | 第66-67页 |
| ·复合层对瞬态反射率的影响 | 第67-68页 |
| ·基底材料对瞬态反射率的影响 | 第68-69页 |
| ·泵浦光功率对瞬态反射率的影响 | 第69-70页 |
| ·泵浦光入射角对瞬态反射率的影响 | 第70-71页 |
| ·钴薄膜的瞬态透射率变化特性 | 第71-75页 |
| ·薄膜厚度对瞬态透射率的影响 | 第71-72页 |
| ·退火处理对瞬态透射率的影响 | 第72-73页 |
| ·复合层对瞬态透射率的影响 | 第73-74页 |
| ·泵浦光功率对瞬态透射率的影响 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第五章 钴薄膜超快动力学过程数值模拟 | 第76-95页 |
| ·基于双温模型模拟 | 第76-86页 |
| ·双温模型(Two Temperature Model,TTM) | 第76-78页 |
| ·方程离散处理 | 第78-79页 |
| ·模型的数值求解 | 第79-80页 |
| ·结果与讨论 | 第80-86页 |
| ·基于三温模型模拟 | 第86-93页 |
| ·三温模型(Three Temperature Model,3TM) | 第86-87页 |
| ·方程离散处理 | 第87页 |
| ·模型的数值求解 | 第87-88页 |
| ·结果与讨论 | 第88-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第六章 总结与展望 | 第95-98页 |
| ·总结 | 第95-96页 |
| ·展望 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-107页 |
| 致谢 | 第107-108页 |
| 在读博士学位期间发表的论文及取得的科研成果 | 第108-111页 |