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面向高密度阻变存储器应用的阈值选通器件研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第11-37页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 阻变存储器概述第12-16页
    1.3 高密度阻变存储器面临的问题及解决方法第16-19页
    1.4 选通器件概述第19-20页
    1.5 选通器件的研究现状第20-34页
        1.5.1 硅基选通器件第20-23页
        1.5.2 氧化物基连续转变型选通器件第23-25页
        1.5.3 阈值转变选通器件第25-34页
    1.6 研究意义与主要研究内容第34-37页
第2章 阈值选通器件的制备方法与表征手段第37-47页
    2.1 阈值选通器件的制备第37-44页
        2.1.1 仅上电极图形化的“三明治”结构第37-41页
        2.1.2 通孔结构第41-44页
    2.2 电学性能测试与微观结构表征第44-47页
        2.2.1 电学性能测试第44-45页
        2.2.2 微观结构表征第45-47页
第3章 ZrO_2基单向阈值选通器件研究第47-59页
    3.1 引言第47-48页
    3.2 薄膜厚度与电极尺寸对阈值转变特性的影响第48-54页
        3.2.1 ZrO_2基单向阈值选通器件的设计与制备第48页
        3.2.2 薄膜厚度对阈值转变特性的影响第48-52页
        3.2.3 金属电极尺寸对阈值转变特性的影响第52页
        3.2.4 优化后的阈值选通器件的电学性能第52-54页
    3.3 上电极材料对阈值转变特性的影响第54-56页
        3.3.1 器件的设计与制备第54页
        3.3.2 不同活性金属电极的阈值转变特性第54-56页
    3.4 Ti插入层对阈值转变特性的影响第56-57页
    3.5 本章小结第57-59页
第4章 ZrO_2基双向阈值选通器件研究第59-71页
    4.1 引言第59-60页
    4.2 基于编程操作的双向阈值转变特性研究第60-61页
        4.2.1 单向阈值特性向双向阈值特性的转变第60-61页
        4.2.2 双向阈值选通器件的电学特性第61页
    4.3 基于退火处理的双向阈值转变特性研究第61-69页
        4.3.1 器件设计与制备第61-62页
        4.3.2 退火温度和时间对阈值转变特性的影响第62-65页
        4.3.3 双向阈值选通器件的电学性能第65-66页
        4.3.4 选通器件的释放时间测试第66-67页
        4.3.5 双向阈值转变机制第67-69页
    4.4 本章小结第69-71页
第5章 非晶硅基单向阈值选通器件研究第71-79页
    5.1 引言第71页
    5.2 非晶硅阈值选通器件研究第71-78页
        5.2.1 器件的设计与制备第71-72页
        5.2.2 非晶硅基器件的整流特性研究第72-73页
        5.2.3 阈值选通器件的转变机制第73-75页
        5.2.4 选通器件的电学性能第75-76页
        5.2.5 薄膜厚度对阈值转变行为的影响第76-78页
    5.3 本章小节第78-79页
第6章 阈值选通器件与阻变存储器的集成第79-99页
    6.1 引言第79页
    6.2 forming-free型阻变存储器研究第79-87页
        6.2.1 氧空位对ZrO_2基阻变存储器forming过程的影响第80-83页
        6.2.2 Cu插入层对A1_2O_3基RRAM阻变特性的影响第83-87页
    6.3 双向阈值选通器件和双极型阻变存储器件的集成第87-94页
        6.3.1 双极型阻变器件的电学特性第87-88页
        6.3.2 1S-1R器件的制备和电学性能第88-91页
        6.3.3 读取窗口的计算第91-94页
    6.4 单向阈值选通器件和双极型阻变存储器件的集成第94-96页
        6.4.1 双极型阻变器件的电学特性第94页
        6.4.2 1S-1R器件的制备和电学性能第94-96页
    6.5 本章小结第96-99页
第7章 结论与展望第99-103页
参考文献第103-115页
致谢第115-117页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第117页

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