高频磁性薄膜及其在电磁噪声抑制中的应用
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 研究意义与背景 | 第9-10页 |
| 1.2 电磁噪声抑制器的研究现状 | 第10-16页 |
| 1.2.1 薄膜电磁噪声抑制器的抑应用机理研究 | 第12-15页 |
| 1.2.2 薄膜噪声抑制器的应用 | 第15-16页 |
| 1.3 本论文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 高频磁性薄膜理论 | 第18-27页 |
| 2.1 铁磁共振理论 | 第18-20页 |
| 2.1.1 磁化强度矢量进动方程 | 第18-19页 |
| 2.1.2 磁畴的自然共振 | 第19-20页 |
| 2.2 退磁因子理论 | 第20-21页 |
| 2.3 张量磁导率的导出及其特点 | 第21-27页 |
| 2.3.1 高频磁性薄膜磁导率的推导和特点 | 第23-25页 |
| 2.3.2 考虑涡流损耗的薄膜磁导率 | 第25-27页 |
| 第三章 薄膜噪声抑制片的HFSS有限元仿真 | 第27-42页 |
| 3.1 薄膜的选取和计算 | 第27-29页 |
| 3.2 建立仿真模型 | 第29-31页 |
| 3.3 仿真结果分析 | 第31-37页 |
| 3.4 铁磁性纳米阵列薄膜噪声抑制器的计算和仿真 | 第37-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 高频电磁噪声抑制薄膜的制备与表征 | 第42-56页 |
| 4.1 NiZn铁氧体靶材的制备 | 第42-44页 |
| 4.2 FeCo薄膜的最佳制备工艺研究 | 第44-48页 |
| 4.2.1 溅射机理和实验设备 | 第44-46页 |
| 4.2.2 薄膜的磁性能测试结果分析 | 第46-48页 |
| 4.3 FeCo基复合薄膜的制备 | 第48-55页 |
| 4.3.1 实验准备和实验条件 | 第48-49页 |
| 4.3.2 实验结果分析 | 第49-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 噪声抑制片测试夹具的设计与制作 | 第56-60页 |
| 5.1 夹具设计标准和要求 | 第56页 |
| 5.2 测试夹具与测试平台的制作与制作 | 第56-57页 |
| 5.3 薄膜的噪声抑制效果测试和数据处理 | 第57-59页 |
| 5.3.1 薄膜的噪声抑制效果测试 | 第57-58页 |
| 5.3.2 数据处理 | 第58-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第66-67页 |
