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二氧化锡基催化剂的构筑及其动力学过程

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-25页
    §1.1 光催化技术背景第9-11页
    §1.2 二氧化锡纳米材料的性质及研究进展第11-14页
        §1.2.1 二氧化锡性质第11-12页
        §1.2.2 二氧化锡性能改进第12-14页
    §1.3 半导体光催化原理第14-18页
    §1.4 光催化Langmuir-Hishelwood(L-H)动力学模型第18-19页
    §1.5 本论文的研究意义和主要内容第19-21页
    参考文献第21-25页
第二章 Sn02-Cu20的制备及其光催化降解研究第25-40页
    §2.1 引言第25-26页
    §2.2 样品的制备第26-28页
    §2.3 测试结果第28-34页
        §2.3.1 XRD分析第28-29页
        §2.3.2 电镜分析第29-31页
        §2.3.3 光谱分析第31-33页
        §2.3.4 XPS分析第33-34页
    §2.4 光催化降解性能及其动力学分析第34-36页
    §2.5 本章小结第36-37页
    参考文献第37-40页
第三章 SnO_2-PbS的制备及其光催化降解研究第40-55页
    §3.1 引言第40-41页
    §3.2 样品的制备第41-42页
    §3.3 测试结果第42-50页
        §3.3.1 XRD分析第42-43页
        §3.3.2 电镜分析第43-45页
        §3.3.3 光谱分析第45-48页
        §3.3.4 XPS分析第48-49页
        §3.3.5 BET分析第49-50页
        §3.3.6 光电流分析第50页
    §3.4 光催化降解性能及其动力学分析第50-52页
    §3.5 本章小结第52-53页
    参考文献第53-55页
第四章 金-多孔二氧化锡纳米结构的光催化降解研究第55-71页
    §4.1 引言第55-56页
    §4.2 多孔二氧化锡纳米结构的制备第56-57页
    §4.3 多孔二氧化锡纳米结构的测试结果第57-60页
        §4.3.1 电镜分析第57-58页
        §4.3.2 XRD分析第58-60页
        §4.3.3 XPS分析第60页
    §4.4 多孔二氧化锡纳米结构的光催化降解分析第60-62页
    §4.5 金-多孔二氧化锡纳米结构的制备第62页
    §4.6 金-多孔二氧化锡纳米结构的测试结果第62-65页
        §4.6.1 电镜分析第62-63页
        §4.6.2 XRD分析第63-64页
        §4.6.3 XPS分析第64-65页
        §4.6.4 光谱分析第65页
    §4.7 金-多孔氧化锡纳米结构的光催化降解性能及其动力学分析第65-67页
    §4.8 本章小结第67-68页
    参考文献第68-71页
第五章 工作总结和展望第71-73页
    §5.1论文小结第71-72页
    §5.2 后续工作展望第72-73页
攻读学位期间发表的论文和专利第73-74页
致谢第74-75页

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