| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1. 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 光子晶体的概念 | 第9-11页 |
| 1.3 光子晶体滤波特性的应用 | 第11-14页 |
| 1.3.1 光子晶体光纤(PCF) | 第11-12页 |
| 1.3.2 光子晶体滤波器 | 第12页 |
| 1.3.3 光子晶体激光器 | 第12-13页 |
| 1.3.4 高性能反射镜 | 第13页 |
| 1.3.5 光子晶体传感器 | 第13-14页 |
| 1.4 一维光子晶体的滤波特性研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5 溶胶-凝胶法制备TIO_2-SIO_2一维光子晶体的研究发展现状 | 第15页 |
| 1.6 本课题提出的背景及内容 | 第15-17页 |
| 2. 一维光子晶体的滤波理论 | 第17-24页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 一维光子晶体的模型 | 第17-18页 |
| 2.3 一维光子晶体计算方法 | 第18-23页 |
| 2.3.1 一维光子晶体中的电磁波传输理论 | 第18-19页 |
| 2.3.2 一维光子晶体的常用计算方法 | 第19-20页 |
| 2.3.3 一维光子晶体的传输矩阵 | 第20-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 3. 近红外波段一维光子晶体滤波特性的仿真 | 第24-38页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 周期数与材料折射率比的影响 | 第24-26页 |
| 3.3 入射角度的影响 | 第26-27页 |
| 3.4 基底介质的影响 | 第27-29页 |
| 3.5 缺陷层对于一维光子晶体滤波特性的影响 | 第29-36页 |
| 3.5.1 缺陷层光学厚度与缺陷模态位置的关系 | 第30-32页 |
| 3.5.2 缺陷层材料的折射率与缺陷模态强度的关系 | 第32-34页 |
| 3.5.3 缺陷层位置与缺陷模强度的关系 | 第34-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-38页 |
| 4. TIO_2-SIO_2一维光子晶体的制备与检测 | 第38-55页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 一维光子晶体的制备与表征方法 | 第38-40页 |
| 4.2.1 制备方法与材料 | 第38-39页 |
| 4.2.2 表征与分析方法 | 第39-40页 |
| 4.3 溶胶-凝胶法制备薄膜 | 第40-46页 |
| 4.3.1 溶胶的制备与基片的清洗 | 第40页 |
| 4.3.2 薄膜的制备与优化 | 第40-42页 |
| 4.3.3 浸渍-提拉法影响薄膜厚度的因素及控制 | 第42-44页 |
| 4.3.4 影响薄膜质量的因素及其控制 | 第44-46页 |
| 4.4 一维光子晶体的制备与检测 | 第46-54页 |
| 4.4.1 一维光子晶体的制备流程 | 第46页 |
| 4.4.2 可见光波段一维光子晶体制备与检测 | 第46-50页 |
| 4.4.3 紫外波段一维光子晶体制备与检测 | 第50-51页 |
| 4.4.4 近红外波段一维光子晶体的制备与检测 | 第51-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 5. 一维光子晶体实验与计算结果的对比分析与讨论 | 第55-59页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 一维光子晶体滤波特性的实验和计算对比分析 | 第55-56页 |
| 5.3 周期数对一维光子晶体滤波特性影响的实验和计算对比分析 | 第56-57页 |
| 5.4 入射角度对一维光子晶体滤波特性影响的实验和计算对比分析 | 第57-58页 |
| 5.5 误差分析 | 第58页 |
| 5.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 6. 总结与展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 攻读学位期间的主要研究成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
