| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 ZnO 纳米结构 | 第10-17页 |
| 1.2.1 ZnO 纳米结构的研究现状及产业前景 | 第10-11页 |
| 1.2.2 ZnO 纳米结构的基本性质 | 第11-15页 |
| 1.2.3 制备 ZnO 纳米结构的方法介绍 | 第15-17页 |
| 1.3 超声雾化热解喷涂(USP)技术 | 第17-19页 |
| 1.3.1 USP 技术的发展与现状 | 第17-18页 |
| 1.3.2 USP 技术的原理 | 第18-19页 |
| 1.4 ZnO 稀磁半导体（DMSs） | 第19-26页 |
| 1.4.1 ZnO 基 DMSs 的研究现状及发展趋势 | 第19-21页 |
| 1.4.2 ZnO 基 DMSs 中微量元素的检测 | 第21-22页 |
| 1.4.3 ZnO 基 DMSs 中铁磁性产生的模型介绍 | 第22-26页 |
| 1.5 选题意义及主要研究内容 | 第26-28页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第26页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 实验方法及性能表征 | 第28-34页 |
| 2.1 实验设备及制备方案设计 | 第28-32页 |
| 2.1.1 实验设备介绍 | 第28-29页 |
| 2.1.2 制备方案设计 | 第29-32页 |
| 2.2 样品的性能测试及表征 | 第32-34页 |
| 第三章 衬底温度(T_s)对 ZnO 纳米结构组织与性能的影响 | 第34-45页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 T_s对 ZnO纳米结构和 Zn_(0.98)Cu_(0.02)O形貌的影响 | 第35-38页 |
| 3.2.1 对 ZnO 纳米结构形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.2 对 Zn_(0.98)Cu_(0.02)O形貌的影响 | 第36-38页 |
| 3.3 不同 T_s下 ZnO纳米结构和 Zn_(0.98)Cu_(0.0)2O 各项性能研究 | 第38-43页 |
| 3.3.1 ZnO 纳米结构的晶体结构、光学及电学性能分析 | 第38-43页 |
| 3.3.2 Zn_(0.98)Cu_(0.02)O磁性能分析 | 第43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 ZnO 纳米结构膜的成形过程分析 | 第45-52页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 纳米结构膜的成膜机理 | 第45-48页 |
| 4.2.1 单体吸附、表面扩散与凝聚 | 第45-47页 |
| 4.2.2 纳米结构膜的形核与长大 | 第47-48页 |
| 4.3 USP 技术制备 ZnO 纳米结构膜的成形机理特点 | 第48-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 Cu 掺杂 ZnO 纳米结构膜的性能研究 | 第52-70页 |
| 5.1 引言 | 第52-53页 |
| 5.2 前驱体溶液中的含 Cu 量对 Zn_(1-x)Cu_xO 各项性能的影响 | 第53-57页 |
| 5.2.1 对晶体结构的影响 | 第53-54页 |
| 5.2.2 对表面形貌的影响 | 第54-55页 |
| 5.2.3 对磁性能的影响及铁磁性产生机制的讨论 | 第55-57页 |
| 5.3 关于 USP 技术对 ZnO 纳米结构膜进行 Cu 掺杂相关问题的讨论 | 第57-68页 |
| 5.3.1 找寻 Zn_(1-x)Cu_xO 样品中的 Cu 元素 | 第58-63页 |
| 5.3.2 Zn_(1-x)Cu_xO 样品中 Cu 含量甚低的原因探索 | 第63-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
