多功能高离化率真空镀膜控制系统研制
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 可调脉冲高功率磁控溅射 | 第10-13页 |
| 1.3 脉冲增强电子发射(P3e) | 第13-15页 |
| 1.4 工业控制与真空镀膜机的现状 | 第15-18页 |
| 1.4.1 可编程控制器 | 第15-16页 |
| 1.4.2 PC总线工业电脑 | 第16-17页 |
| 1.4.3 镀膜控制系统的现状 | 第17-18页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 试验设备与方法 | 第19-24页 |
| 2.1 试验设备 | 第19-20页 |
| 2.2 测试与试验方案 | 第20-24页 |
| 2.2.1 MPP放电特性测试 | 第20-21页 |
| 2.2.2 MPP光谱仪诊断 | 第21-22页 |
| 2.2.3 P3e基体电流测试 | 第22-24页 |
| 第3章 多功能真空镀膜自动化系统研制 | 第24-34页 |
| 3.1 PLC通讯的实现 | 第24-26页 |
| 3.2 设计模拟量 485 转换从机 | 第26-28页 |
| 3.3 控制数字开关量 | 第28-29页 |
| 3.4 上位机的设计 | 第29-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 可调脉冲高功率磁控溅射电源控制系统 | 第34-52页 |
| 4.1 电源整体方案设计 | 第34-35页 |
| 4.2 控制部分设计 | 第35-39页 |
| 4.3 主电路设计 | 第39-43页 |
| 4.3.1 直流电路设计 | 第40-41页 |
| 4.3.2 波形调整电路设计 | 第41-42页 |
| 4.3.3 保护系统设计 | 第42-43页 |
| 4.4 电源水负载及等离子负载测试 | 第43-47页 |
| 4.4.1 MPP水负载电压-电流波形 | 第43-45页 |
| 4.4.2 MPP等离子负载测试 | 第45-47页 |
| 4.5 MPP放电光谱特性 | 第47-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 脉冲增强电子发射电源控制系统 | 第52-62页 |
| 5.1 P3e电源设计 | 第52-54页 |
| 5.2 P3e的水负载及真空放电特性试验 | 第54-55页 |
| 5.3 脉冲增强电子发射效应研究 | 第55-60页 |
| 5.3.1 P3e电源基体电流的测量 | 第55-57页 |
| 5.3.2 气压和电参数对基体电流的综合影响 | 第57-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
