| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第16-36页 |
| 1.1 研究背景 | 第16-17页 |
| 1.2 大口径主镜膜系的国内外研究现状 | 第17-24页 |
| 1.3 大口径主镜银反射膜制备的相关问题 | 第24-34页 |
| 1.3.1 金属银膜的光学性质及其制备 | 第24-27页 |
| 1.3.2 银反射镜的环境稳定性 | 第27-32页 |
| 1.3.3 薄膜厚度分布均匀性的修正 | 第32-34页 |
| 1.4 本论文主要研究内容 | 第34-36页 |
| 第2章 磁控溅射制备大口径主镜银反射镜工艺研究 | 第36-58页 |
| 2.1 引言 | 第36-37页 |
| 2.2 磁控溅射制备银反射镜工艺参数优化 | 第37-43页 |
| 2.2.1 实验样品制备 | 第37-38页 |
| 2.2.2 单层膜工艺参数优化 | 第38-42页 |
| 2.2.3 多层膜样品实验制备 | 第42-43页 |
| 2.3 银反射镜反射率偏低原因分析 | 第43-49页 |
| 2.3.1 银反射镜样品微观结构分析 | 第43-45页 |
| 2.3.2 银反射镜样品的元素分析 | 第45-49页 |
| 2.4 N_2/Ar混合溅射银靶制备持久性银反射镜 | 第49-57页 |
| 2.4.1 N_2/Ar混合溅射制备单层银膜 | 第49-53页 |
| 2.4.2 N_2对银反射镜样品性能的影响 | 第53-57页 |
| 2.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第3章 银反射镜膜层厚度优化及环境稳定性研究 | 第58-92页 |
| 3.1 引言 | 第58-59页 |
| 3.2 实验 | 第59-61页 |
| 3.2.1 薄膜样品制备 | 第59页 |
| 3.2.2 加速环境实验 | 第59-60页 |
| 3.2.3 样品特性表征 | 第60-61页 |
| 3.3 NiCrN_x过渡层厚度优化 | 第61-70页 |
| 3.3.1 光学性质 | 第61-63页 |
| 3.3.2 湿热试验 | 第63-67页 |
| 3.3.3 盐雾试验 | 第67-70页 |
| 3.4 SiN_x保护层厚度优化 | 第70-80页 |
| 3.4.1 光学性质 | 第71-73页 |
| 3.4.2 湿热试验 | 第73-76页 |
| 3.4.3 盐雾试验 | 第76-80页 |
| 3.5 银基膜系的腐蚀机理 | 第80-84页 |
| 3.5.1 单层银膜的腐蚀特征 | 第81页 |
| 3.5.2 四层结构银反射镜的腐蚀机理 | 第81-84页 |
| 3.6 SiN_x的环境稳定性 | 第84-89页 |
| 3.6.1 厚SiN_x薄膜的环境稳定性 | 第85页 |
| 3.6.2 薄SiN_x薄膜的环境稳定性 | 第85-89页 |
| 3.7 本章小结 | 第89-92页 |
| 第4章 大口径磁控溅射镀膜机膜厚均匀性分析 | 第92-108页 |
| 4.1 引言 | 第92-93页 |
| 4.2 磁控溅射膜厚分布理论基础 | 第93-94页 |
| 4.3 磁控溅射膜厚分布的理论计算模型 | 第94-99页 |
| 4.4 Deimos5500磁控溅射镀膜机均匀性分析 | 第99-106页 |
| 4.4.1 无修正挡板时不同曲率光学元件的膜厚均匀性分析 | 第100-102页 |
| 4.4.2 修正挡板校正平面主镜薄膜厚度均匀性 | 第102-105页 |
| 4.4.3 曲面主镜的膜厚分布校正 | 第105-106页 |
| 4.5 本章小结 | 第106-108页 |
| 第5章 逆向热蒸发制备大口径主镜银反射镜 | 第108-130页 |
| 5.1 引言 | 第108-109页 |
| 5.2 实验 | 第109-117页 |
| 5.2.1 ZZS3200高真空镀膜机结构 | 第109-110页 |
| 5.2.2 膜系设计 | 第110-112页 |
| 5.2.3 逆向热蒸发制备银膜 | 第112-115页 |
| 5.2.4 银反射镜的制备 | 第115-116页 |
| 5.2.5 薄膜样品的测试 | 第116-117页 |
| 5.3 银加介质保护反射镜的实验结果分析 | 第117-122页 |
| 5.3.1 薄膜样品的光谱特性 | 第117-118页 |
| 5.3.2 薄膜样品的剖面形貌 | 第118-119页 |
| 5.3.3 薄膜样品的环境稳定性 | 第119-121页 |
| 5.3.4 Ф500mm口径银反射镜样品镀制 | 第121-122页 |
| 5.4 银加介质增强膜系的可行性研究 | 第122-129页 |
| 5.4.1 材料选择 | 第122-123页 |
| 5.4.2 CeF_3与ZnS介质增强膜堆 | 第123-124页 |
| 5.4.3 LaF_3与ZnS介质增强膜堆 | 第124-125页 |
| 5.4.4 SiO_x与ZnS介质增强膜堆 | 第125-129页 |
| 5.5 本章小结 | 第129-130页 |
| 第6章 总结与展望 | 第130-134页 |
| 6.1 论文主要工作 | 第130-131页 |
| 6.2 论文创新点 | 第131-132页 |
| 6.3 存在的问题和对后续工作的建议 | 第132-134页 |
| 参考文献 | 第134-148页 |
| 致谢 | 第148-150页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第150页 |
