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纳米阵列结构表面增强拉曼散射基底的设计与研究

中文摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 引言第8-13页
    1.1 研究背景第8-10页
        1.1.1 光的散射第8页
        1.1.2 拉曼散射第8-9页
        1.1.3 表面增强拉曼散射第9-10页
    1.2 研究现状及应用第10-11页
    1.3 本文采用的研究方法第11页
    1.4 本文的研究内容第11-13页
第二章 表面增强拉曼散射第13-21页
    2.1 发展与发现第13-14页
    2.2 增强机理第14-16页
        2.2.1 电磁增强(EM)机理第14-15页
        2.2.2 化学增强(CM)机理第15-16页
    2.3 加工技术第16-18页
        2.3.1 电化学氧化还原法制备粗糙电极第16页
        2.3.2 化学合成法制备金属溶胶颗粒第16-17页
        2.3.3 有序SERS基底制备法第17-18页
    2.4 应用第18-20页
        2.4.1 生物医学第18-19页
        2.4.2 环境监测第19-20页
        2.4.3 考古与艺术第20页
        2.4.4 公共安全第20页
    2.5 小结第20-21页
第三章 纳米二聚体的热点研究第21-27页
    3.1 模型与分析第21-23页
    3.2 结果与讨论第23-25页
    3.3 小结第25-27页
第四章 三角楔拉曼增强基底的设计与分析第27-35页
    4.1 模型分析第27-28页
    4.2 参数分析第28-32页
    4.3 应用及加工第32-34页
    4.4 小结第34-35页
第五章 纳米粒子/硅金字塔拉曼增强基底的设计与应用第35-48页
    5.1 模型分析第35-36页
    5.2 参数分析第36-39页
    5.3 制备过程第39-40页
    5.4 实验第40-44页
    5.5 应用第44-47页
        5.5.1 掩蔽剂的选择第45页
        5.5.2 检测过程第45-46页
        5.5.3 实验条件第46-47页
    5.6 小结第47-48页
第六章 结论与展望第48-50页
    6.1 研究结论第48-49页
    6.2 展望第49-50页
参考文献第50-53页
在学期间的研究成果第53-54页
致谢第54页

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