中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 引言 | 第8-13页 |
1.1 研究背景 | 第8-10页 |
1.1.1 光的散射 | 第8页 |
1.1.2 拉曼散射 | 第8-9页 |
1.1.3 表面增强拉曼散射 | 第9-10页 |
1.2 研究现状及应用 | 第10-11页 |
1.3 本文采用的研究方法 | 第11页 |
1.4 本文的研究内容 | 第11-13页 |
第二章 表面增强拉曼散射 | 第13-21页 |
2.1 发展与发现 | 第13-14页 |
2.2 增强机理 | 第14-16页 |
2.2.1 电磁增强(EM)机理 | 第14-15页 |
2.2.2 化学增强(CM)机理 | 第15-16页 |
2.3 加工技术 | 第16-18页 |
2.3.1 电化学氧化还原法制备粗糙电极 | 第16页 |
2.3.2 化学合成法制备金属溶胶颗粒 | 第16-17页 |
2.3.3 有序SERS基底制备法 | 第17-18页 |
2.4 应用 | 第18-20页 |
2.4.1 生物医学 | 第18-19页 |
2.4.2 环境监测 | 第19-20页 |
2.4.3 考古与艺术 | 第20页 |
2.4.4 公共安全 | 第20页 |
2.5 小结 | 第20-21页 |
第三章 纳米二聚体的热点研究 | 第21-27页 |
3.1 模型与分析 | 第21-23页 |
3.2 结果与讨论 | 第23-25页 |
3.3 小结 | 第25-27页 |
第四章 三角楔拉曼增强基底的设计与分析 | 第27-35页 |
4.1 模型分析 | 第27-28页 |
4.2 参数分析 | 第28-32页 |
4.3 应用及加工 | 第32-34页 |
4.4 小结 | 第34-35页 |
第五章 纳米粒子/硅金字塔拉曼增强基底的设计与应用 | 第35-48页 |
5.1 模型分析 | 第35-36页 |
5.2 参数分析 | 第36-39页 |
5.3 制备过程 | 第39-40页 |
5.4 实验 | 第40-44页 |
5.5 应用 | 第44-47页 |
5.5.1 掩蔽剂的选择 | 第45页 |
5.5.2 检测过程 | 第45-46页 |
5.5.3 实验条件 | 第46-47页 |
5.6 小结 | 第47-48页 |
第六章 结论与展望 | 第48-50页 |
6.1 研究结论 | 第48-49页 |
6.2 展望 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-53页 |
在学期间的研究成果 | 第53-54页 |
致谢 | 第54页 |