| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 场致电子发射的研究现状 | 第9-13页 |
| 1.2 场致电子发射材料 | 第13-16页 |
| 1.3 本论文的课题背景及研究意义 | 第16-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 场致电子发射的基本理论 | 第22-33页 |
| 2.1 固体表面势垒与电子发射 | 第23-30页 |
| 2.1.1 金属热电子发射 | 第23-24页 |
| 2.1.2 场致电子发射 | 第24-25页 |
| 2.1.3 Fowler-Nordheim理论 | 第25-27页 |
| 2.1.4 半导体场致电子发射 | 第27-30页 |
| 2.2 场致电子发射的评价参数 | 第30-32页 |
| 2.2.1 开启电场 | 第30页 |
| 2.2.2 电流密度 | 第30-31页 |
| 2.2.3 场增强因子 | 第31页 |
| 2.2.4 场发射电流稳定性 | 第31页 |
| 2.2.5 场发射电子光斑分布 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 TiO_2/Ti纳米管阵列的制备及其场发射特性研究 | 第33-46页 |
| 3.1 TiO_2纳米管阵列结构的研究现状及意义 | 第33页 |
| 3.2 TiO_2纳米管阵列结构的主要制备方法 | 第33-35页 |
| 3.3 TiO_2/Ti纳米管阵列的制备及表征 | 第35-39页 |
| 3.3.1 TiO_2纳米管阵列的制备 | 第35-36页 |
| 3.3.2 TiO_2/Ti纳米管阵列的形貌结构 | 第36-37页 |
| 3.3.3 TiO_2/Ti纳米管阵列的XPS表征 | 第37-38页 |
| 3.3.4 TiO_2/Ti纳米管阵列的物相研究 | 第38-39页 |
| 3.4 TiO_2/Ti纳米管阵列膜的形成机理 | 第39页 |
| 3.5 TiO_2/Ti纳米管阵列的场致电子发射特性研究 | 第39-42页 |
| 3.5.1 场致发射测试系统的组装 | 第39-41页 |
| 3.5.2 TiO_2/Ti纳米管阵列的场致电子发射特性测试及分析 | 第41-42页 |
| 3.6 本章小结 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第四章 CNTs/TiO_2/Ti复合结构的制备及其场发射特性研究 | 第46-55页 |
| 4.1 碳纳米管及其复合材料的研究进展 | 第46-47页 |
| 4.2 CNTs/TiO_2/Ti复合结构的制备及表征 | 第47-51页 |
| 4.2.1 CVD系统的组装 | 第47-48页 |
| 4.2.2 CNTs/TiO_2/Ti纳米结构的制备 | 第48-50页 |
| 4.2.3 CNTs/TiO_2/Ti纳米结构的表征 | 第50-51页 |
| 4.3 CNTs/TiO_2/Ti纳米结构的场致电子发射性能测试 | 第51-52页 |
| 4.4 CNTs/TiO_2/Ti纳米结构场致电子发射性能分析 | 第52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第五章 DNRs/TiO_2/Ti复合结构的制备及其场发射特性研究 | 第55-65页 |
| 5.1 金刚石薄膜场发射方面的研究进展 | 第55-56页 |
| 5.2 DNRs/TiO_2/Ti纳米结构的制备及表征 | 第56-59页 |
| 5.2.1 DNRs/TiO_2/Ti纳米结构的制备 | 第56-58页 |
| 5.2.2 DNRs/TiO_2/Ti纳米结构的形貌结构 | 第58-59页 |
| 5.2.3 DNRs/TiO_2/Ti纳米结构的表征 | 第59页 |
| 5.3 金刚石纳米棒生长机理 | 第59-60页 |
| 5.4 DNRs/TiO_2/Ti纳米结构的场致电子发射特性研究 | 第60-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 第六章 总结和展望 | 第65-66页 |
| 附录：攻读硕士期间发表和完成的研究论文目录 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
