摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-21页 |
·非晶薄膜材料概述 | 第9-15页 |
·非晶薄膜概况 | 第9-11页 |
·非晶碳膜的结构模型 | 第11-13页 |
·制备非晶薄膜的常用方法 | 第13-15页 |
·气敏传感器材料简介 | 第15-17页 |
·课题的研究背景和意义 | 第17-20页 |
·本论文的工作内容 | 第20-21页 |
第二章 样品的制备与表征方法 | 第21-28页 |
·非晶碳膜的制备原理 | 第21-22页 |
·样品的制备过程 | 第22-23页 |
·常用的样品表征方法 | 第23-26页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
·拉曼光谱(Raman) | 第24-25页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第25页 |
·X射线能谱仪(EDS) | 第25-26页 |
·样品电学性能的测量方法 | 第26-27页 |
·气体敏感性的测量方法 | 第27-28页 |
第三章 非晶碳膜的气体敏感特性 | 第28-49页 |
·基于非晶碳膜/硅异质结电容变化的氨气敏感特性研究 | 第28-35页 |
·氨气敏感材料的研究现状及其应用前景 | 第28-29页 |
·样品准备及实验方法 | 第29页 |
·具有氨气敏感特性的薄膜的表征与结构 | 第29-31页 |
·氨气对C/Si异质结电输运特性的影响 | 第31-33页 |
·氨气气敏探测机理解释 | 第33-35页 |
·碳纳米尖阵列/硅异质结对酒精的敏感特性 | 第35-42页 |
·酒精气敏传感器的研究现状与应用前景 | 第35-36页 |
·样品制备及实验方法 | 第36页 |
·结果与讨论 | 第36-42页 |
·碳纳米薄膜/硅异质结的湿度敏感特性研究 | 第42-48页 |
·湿度敏感材料的研究现状及其应用前景 | 第42-43页 |
·样品制备与实验方法 | 第43-44页 |
·实验结果与讨论 | 第44-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第四章 掺钯碳膜/硅异质结的电输运性质及氢气敏感性 | 第49-56页 |
·引言 | 第49-50页 |
·样品准备与实验方法 | 第50页 |
·结构与表征 | 第50-53页 |
·电学性质及对氢气的敏感性 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-68页 |
在学期间的研究成果 | 第68-70页 |
致谢 | 第70页 |