| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题的来源意义 | 第8-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 研究目标及研究方法 | 第12-14页 |
| 1.4 研究内容及关键参数 | 第14-16页 |
| 2 椭偏仪研究原子层沉积背景及常用模型介绍 | 第16-33页 |
| 2.1 原子层沉积薄膜的制备 | 第16-18页 |
| 2.2 原子层沉积薄膜的实验表征 | 第18-20页 |
| 2.3 椭偏仪测量原理及数据采集 | 第20-25页 |
| 2.4 椭偏仪数据分析 | 第25-28页 |
| 2.5 椭偏仪数据拟合常用模型 | 第28-33页 |
| 3 金属氧化物及有机薄膜椭偏仪研究 | 第33-45页 |
| 3.1 原子层沉积氧化铝薄膜的椭偏模型研究 | 第33-38页 |
| 3.2 自组装单分子膜SAMs的椭偏模型研究 | 第38-41页 |
| 3.3 原子层沉积氧化钴薄膜的椭偏模型研究 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小节 | 第43-45页 |
| 4 原子层沉积钯薄膜的椭偏模型研究 | 第45-62页 |
| 4.1 原子层沉积钯薄膜的制备及电阻率测试 | 第45-46页 |
| 4.2 GO-Pd模型研究ALD Pd （Si基底）原位生长 | 第46-51页 |
| 4.3 MG-EMA/GO模型研究ALD Pd （Si基底）离线生长 | 第51-57页 |
| 4.4 MG-EMA/GO模型研究ALD Pd （SAMs基底）离线生长 | 第57-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 5 全文总结 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第71页 |
