| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第10-16页 |
| 1.2.1 光催化原理 | 第10-12页 |
| 1.2.2 光催化技术的应用 | 第12-15页 |
| 1.2.3 光催化技术所面临的问题 | 第15-16页 |
| 1.3 提升光催化性能的方法 | 第16-19页 |
| 1.3.1 开发新型光催化材料 | 第16-17页 |
| 1.3.2 形貌调控 | 第17-18页 |
| 1.3.3 金属修饰 | 第18页 |
| 1.3.4 非金属掺杂 | 第18-19页 |
| 1.4 石墨相氮化碳(g-C_3N_4)光催化剂简介 | 第19-25页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4制备 | 第20页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4研究进展 | 第20-25页 |
| 1.5 本课题研究意义及工作内容 | 第25-27页 |
| 1.5.1 研究意义 | 第25页 |
| 1.5.2 工作内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验部分 | 第27-34页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第27-28页 |
| 2.2 光催化材料制备 | 第28-29页 |
| 2.2.1 介孔g-C_3N_4 (mpg-C_3N_4)材料制备 | 第28页 |
| 2.2.2 银修饰mpg-C_3N_4材料制备 | 第28-29页 |
| 2.2.3 氧掺杂mpg-C_3N_4材料制备 | 第29页 |
| 2.3 光催化材料表征手段 | 第29-31页 |
| 2.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第29-30页 |
| 2.3.2 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第30页 |
| 2.3.3 紫外-可见漫反射吸收光谱(DRS) | 第30页 |
| 2.3.4 形貌表征 | 第30-31页 |
| 2.3.5 比表面积测试(BET) | 第31页 |
| 2.3.6 电化学性能测试 | 第31页 |
| 2.4 光催化性能测试 | 第31-33页 |
| 2.5 第一性原理计算 | 第33-34页 |
| 第3章 mpg-C_3N_4制备及光催化活性研究 | 第34-42页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 模板量对mpg-C_3N_4比表面积影响 | 第34-35页 |
| 3.2.1 活性测试 | 第34-35页 |
| 3.2.2 样品比表面积测试 | 第35页 |
| 3.3 pH值对mpg-C_3N_4比表面积影响 | 第35-40页 |
| 3.3.1 活性测试 | 第36页 |
| 3.3.2 样品结构表征 | 第36-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 银修饰对mpg-C_3N_4光催化活性影响研究 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验结果讨论 | 第42-52页 |
| 4.2.1 活性测试 | 第42-43页 |
| 4.2.2 电化学性能测试 | 第43-45页 |
| 4.2.3 样品结构表征 | 第45-48页 |
| 4.2.4 样品光谱性能表征 | 第48-50页 |
| 4.2.5 银修饰提升mpg-C_3N_4光催化活性机理分析 | 第50-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 氧掺杂对mpg-C_3N_4光催化活性影响研究 | 第54-64页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 实验结果讨论 | 第54-63页 |
| 5.2.1 活性测试 | 第54-56页 |
| 5.2.2 样品结构表征 | 第56-59页 |
| 5.2.3 样品光谱性能表征 | 第59-61页 |
| 5.2.4 氧掺杂对g-C_3N_4光催化性能影响机理分析 | 第61-63页 |
| 5.3 本章小结 | 第63-64页 |
| 第6章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 作者简介 | 第74页 |
