| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 微晶玻璃及特种硼硅玻璃的比较 | 第10-11页 |
| 1.2.1 微晶玻璃 | 第10页 |
| 1.2.2 特种硼硅玻璃 | 第10-11页 |
| 1.3 镀膜方法 | 第11-14页 |
| 1.3.1 化学气相沉积(CVD) | 第11页 |
| 1.3.2 物理气相沉积(PVD) | 第11-14页 |
| 1.4 TiAlN及SiN薄膜在高温下的氧化 | 第14-15页 |
| 1.5 研究意义 | 第15-17页 |
| 第二章 实验与方法 | 第17-24页 |
| 2.1 磁控溅射设备 | 第17页 |
| 2.2 薄膜制备 | 第17-19页 |
| 2.2.1 TiAlN薄膜的制备 | 第18页 |
| 2.2.2 TiAlN/SiN复合薄膜的制备 | 第18页 |
| 2.2.3 薄膜的高温氧化 | 第18-19页 |
| 2.3 检测及分析方法 | 第19-24页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜(SEM) | 第19-20页 |
| 2.3.2 多晶X射线衍射仪(XRD) | 第20-21页 |
| 2.3.3 多功能X射线光电子能谱(XPS) | 第21页 |
| 2.3.4 纳米压痕测试仪 | 第21-22页 |
| 2.3.5 划痕测试仪 | 第22-23页 |
| 2.3.6 透射显微电镜 | 第23-24页 |
| 第三章 TiAlN及TiAlN/SiN复合膜的结构 | 第24-33页 |
| 3.1 TiAlN薄膜设计 | 第24-25页 |
| 3.2 TiAlN及Ti AlN/SiN复合膜的微观形貌 | 第25-28页 |
| 3.2.1 TiAlN薄膜形貌观察 | 第25-26页 |
| 3.2.2 TiAlN/SiN复合膜形貌观察 | 第26-28页 |
| 3.3 薄膜成分及化学价态 | 第28-29页 |
| 3.3.1 TiAlN薄膜成分及价态解析 | 第28-29页 |
| 3.3.2 TiAlN/SiN薄膜成分及价态解析 | 第29页 |
| 3.4 薄膜的TEM形貌及相结构 | 第29-32页 |
| 3.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 TiAlN及TiAlN/SiN复合膜的高温氧化性能 | 第33-45页 |
| 4.1 薄膜高温氧化前后形貌 | 第33-37页 |
| 4.1.1 TiAlN单层膜高温氧化后形貌 | 第33-34页 |
| 4.1.2 TiAlN/SiN复合膜高温氧化后形貌 | 第34-37页 |
| 4.2 薄膜成分及化学价态 | 第37-40页 |
| 4.2.1 TiAlN高温氧化成分及价态 | 第37-39页 |
| 4.2.2 TiAlN/SiN高温氧化成分及价态 | 第39-40页 |
| 4.3 薄膜的TEM形貌及相结构 | 第40-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 TiAlN/SiN复合膜的力学性能 | 第45-50页 |
| 5.1 薄膜高温氧化对硬度的影响 | 第45-47页 |
| 5.2 薄膜高温氧化对结合力的影响 | 第47-49页 |
| 5.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及获奖情况 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
