| 致谢 | 第5-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 序 | 第10-12页 |
| 目录 | 第12-14页 |
| 1. 引言 | 第14-34页 |
| 1.1 聚合物太阳能电池的研究背景 | 第14-16页 |
| 1.2 聚合物太阳能电池的工作机理 | 第16-19页 |
| 1.3 聚合物太阳能电池的发展现状 | 第19-28页 |
| 1.3.1 新型聚合物给体材料 | 第20-23页 |
| 1.3.2 新型有机小分子受体材料 | 第23-26页 |
| 1.3.3 体异质结聚合物太阳能电池的结构 | 第26-28页 |
| 1.4 聚合物太阳能电池的界面修饰 | 第28-31页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第31-34页 |
| 2. 双层扩散型体异质结聚合物太阳能电池机理研究 | 第34-56页 |
| 2.1 实验部分 | 第34-35页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第34-35页 |
| 2.1.2 样品的制备与测试 | 第35页 |
| 2.2 P3HT/PCBM薄膜中PCBM小分子的扩散过程研究 | 第35-39页 |
| 2.3 双层扩散型器件性能的优化 | 第39-45页 |
| 2.3.1 PCBM溶液浓度对器件性能的影响 | 第40-41页 |
| 2.3.2 P3HT薄膜的热处理对器件性能的影响 | 第41-42页 |
| 2.3.3 P3HT/PCBM薄膜的热处理温度对器件性能的影响 | 第42-45页 |
| 2.4 热处理对P3HT/PCBM薄膜形貌的影响 | 第45-49页 |
| 2.5 器件退火对薄膜形貌及器件性能的影响 | 第49-54页 |
| 2.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 3. 等离子体处理调控ITO功函数及在反型器件中的应用 | 第56-76页 |
| 3.1 实验部分 | 第56-58页 |
| 3.1.1 ITO表面的等离子体处理 | 第56-57页 |
| 3.1.2 反型结构器件的制备和表征 | 第57-58页 |
| 3.2 等离子体处理对ITO表面性质的影响 | 第58-63页 |
| 3.3 无阴极修饰层器件性能的表征 | 第63-71页 |
| 3.4 ITO的老化性能及无阴极修饰层器件的稳定性 | 第71-73页 |
| 3.5 本章小结 | 第73-76页 |
| 4. 原子层沉积技术制备氧化物薄膜及在反型器件中的应用 | 第76-90页 |
| 4.1 实验部分 | 第77-78页 |
| 4.1.1 实验材料 | 第77页 |
| 4.1.2 氧化物薄膜的制备和表征 | 第77-78页 |
| 4.1.3 器件的制备和表征 | 第78页 |
| 4.2 ZnO薄膜与聚合物太阳能电池的表征 | 第78-82页 |
| 4.3 ITO/Al_2O_3/P3HT：PCBM/MoO_3/Ag器件性能的表征 | 第82-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 5. 结论 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-102页 |
| 作者简历 | 第102-106页 |
| 学位论文数据集 | 第106页 |
