| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 课题背景及研究目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 热控涂层及其研究进展 | 第12-17页 |
| 1.2.1 热量来源 | 第12-13页 |
| 1.2.2 热控涂层的类型 | 第13-17页 |
| 1.2.3 热控涂层在航天器上的应用 | 第17页 |
| 1.3 材料发射率及其影响因素 | 第17-21页 |
| 1.3.1 材料组成 | 第17-18页 |
| 1.3.2 材料厚度及表面状态 | 第18-19页 |
| 1.3.3 合成工艺 | 第19-20页 |
| 1.3.4 温度 | 第20-21页 |
| 1.4 微弧氧化技术及其研究进展 | 第21-24页 |
| 1.4.1 微弧氧化膜层制备技术 | 第21-23页 |
| 1.4.2 微弧氧化膜层的应用 | 第23-24页 |
| 1.5 本论文研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 实验材料和研究方法 | 第25-31页 |
| 2.1 实验材料及化学药品 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第25页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第25-26页 |
| 2.1.3 实验仪器 | 第26页 |
| 2.2 实验设备及样品制备过程 | 第26-28页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第26-27页 |
| 2.2.2 样片的处理 | 第27-28页 |
| 2.2.3 实验过程 | 第28页 |
| 2.3 膜层表征方法 | 第28-29页 |
| 2.3.1 膜层厚度测量 | 第28页 |
| 2.3.2 膜层粗糙度测量 | 第28-29页 |
| 2.3.3 扫描电镜及 EDS 分析 | 第29页 |
| 2.3.4 相组成分析 | 第29页 |
| 2.4 膜层性能测试 | 第29-31页 |
| 2.4.1 热震性能测试 | 第29页 |
| 2.4.2 发射率性能测试 | 第29-30页 |
| 2.4.3 太阳吸收率性能测试 | 第30-31页 |
| 第3章 磷酸盐体系高发射率膜层的制备及性能研究 | 第31-51页 |
| 3.1 钴盐掺杂陶瓷膜的制备及性能研究 | 第31-36页 |
| 3.1.1 不同 Co(Ac)_2浓度下膜层的表征与性能研究 | 第31-34页 |
| 3.1.2 EDTA-2Na 的添加对膜层的影响 | 第34-36页 |
| 3.2 镍盐掺杂陶瓷膜的制备及性能研究 | 第36-39页 |
| 3.2.1 膜层厚度和粗糙度 | 第37页 |
| 3.2.2 膜层形貌 | 第37-38页 |
| 3.2.3 膜层元素及相组成 | 第38-39页 |
| 3.2.4 膜层的吸收率和发射率 | 第39页 |
| 3.3 铁盐掺杂陶瓷膜的制备及性能研究 | 第39-42页 |
| 3.3.1 膜层厚度和粗糙度 | 第40页 |
| 3.3.2 膜层表面形貌 | 第40页 |
| 3.3.3 膜层元素及相组成 | 第40-42页 |
| 3.3.4 膜层吸收率和发射率 | 第42页 |
| 3.4 多种盐共掺杂陶瓷膜层的制备及性能研究 | 第42-48页 |
| 3.4.1 时间变化对膜层的影响 | 第42-45页 |
| 3.4.2 浓度变化对膜层的影响 | 第45-48页 |
| 3.4.3 对比不同溶液量下膜层的发射率 | 第48页 |
| 3.5 热震及退火后性能测试 | 第48-49页 |
| 3.5.1 热震性能 | 第48页 |
| 3.5.2 退火 | 第48-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-51页 |
| 第4章 铝酸盐体系高发射率膜层的制备及性能研究 | 第51-65页 |
| 4.1 铝酸盐体系下膜层厚度和粗糙度 | 第51-54页 |
| 4.1.1 浓度影响 | 第51-52页 |
| 4.1.2 频率影响 | 第52-53页 |
| 4.1.3 电流密度影响 | 第53页 |
| 4.1.4 反应时间影响 | 第53-54页 |
| 4.2 铝酸盐体系下膜层表面形貌 | 第54-57页 |
| 4.2.1 浓度影响 | 第54-55页 |
| 4.2.2 频率影响 | 第55-56页 |
| 4.2.3 电流密度影响 | 第56页 |
| 4.2.4 反应时间影响 | 第56-57页 |
| 4.3 铝酸盐体系下膜层相组成 | 第57-60页 |
| 4.3.1 浓度影响 | 第57-58页 |
| 4.3.2 频率影响 | 第58-59页 |
| 4.3.3 电流密度影响 | 第59页 |
| 4.3.4 反应时间影响 | 第59-60页 |
| 4.4 铝酸盐体系下膜层吸收率发射率性能 | 第60-62页 |
| 4.4.1 浓度影响 | 第60页 |
| 4.4.2 频率影响 | 第60-61页 |
| 4.4.3 电流密度影响 | 第61-62页 |
| 4.4.4 反应时间影响 | 第62页 |
| 4.5 铝酸盐体系下膜层热震及退火后性能测试 | 第62-64页 |
| 4.5.1 热震性能 | 第62-63页 |
| 4.5.2 退火 | 第63-64页 |
| 4.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 硅酸盐体系高发射率膜层的制备及性能研究 | 第65-82页 |
| 5.1 硅酸盐体系下膜层厚度和粗糙度 | 第65-68页 |
| 5.1.1 浓度影响 | 第65-66页 |
| 5.1.2 频率影响 | 第66-67页 |
| 5.1.3 电流密度影响 | 第67-68页 |
| 5.1.4 反应时间影响 | 第68页 |
| 5.2 硅酸盐体系下膜层表面形貌 | 第68-72页 |
| 5.2.1 浓度影响 | 第68-69页 |
| 5.2.2 频率影响 | 第69-70页 |
| 5.2.3 电流密度影响 | 第70页 |
| 5.2.4 反应时间影响 | 第70-72页 |
| 5.3 硅酸盐体系下膜层元素及相组成 | 第72-76页 |
| 5.3.1 浓度影响 | 第72-73页 |
| 5.3.2 频率影响 | 第73-74页 |
| 5.3.3 电流密度影响 | 第74-75页 |
| 5.3.4 反应时间影响 | 第75-76页 |
| 5.4 硅酸盐体系下膜层吸收率发射率性能 | 第76-79页 |
| 5.4.1 浓度影响 | 第76-77页 |
| 5.4.2 频率影响 | 第77-78页 |
| 5.4.3 电流密度影响 | 第78页 |
| 5.4.4 反应时间影响 | 第78-79页 |
| 5.4.5 工艺条件优化 | 第79页 |
| 5.5 硅酸盐体系下膜层热震及退火后性能测试 | 第79-80页 |
| 5.5.1 热震性能 | 第79-80页 |
| 5.5.2 退火 | 第80页 |
| 5.6 本章小结 | 第80-82页 |
| 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91页 |