| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 软磁材料的种类和发展 | 第9-10页 |
| 1.3 金属软磁薄膜 | 第10-12页 |
| 1.4 电化学沉积制备软磁薄膜的研究现状及进展 | 第12-13页 |
| 1.5 研究的动机 | 第13-14页 |
| 参考文献 | 第14-15页 |
| 第二章 理论、样品的制备 | 第15-34页 |
| 2.1 磁性理论 | 第15-23页 |
| 2.1.1 静态磁性 | 第15-20页 |
| 2.1.2 动态磁性 | 第20-23页 |
| 2.2 样品的制备 | 第23-26页 |
| 2.2.1 电化学沉积的原理简介 | 第23-25页 |
| 2.2.2 电化学沉积磁性薄膜的影响因素 | 第25-26页 |
| 2.2.3 仪器和设备 | 第26页 |
| 2.3 软磁薄膜性能的表征方法 | 第26-33页 |
| 2.3.1 研究晶体结构----X射线衍射仪(XRD) | 第26-28页 |
| 2.3.2 研究表面形貌----扫描电子显微镜(SEM) | 第28-29页 |
| 2.3.3 研究静态磁性----振动样品磁强计(VSM) | 第29页 |
| 2.3.4 测量微波磁性----矢量网络分析仪(VNA) | 第29-30页 |
| 2.3.5 测量元素比例----X射线能量色散谱仪(EDS) | 第30-31页 |
| 2.3.6 电感耦合等离子发射谱仪(ICP-AES) | 第31-32页 |
| 2.3.7 激光打标机 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 电沉积FeCoZr薄膜的制备与磁性研究 | 第34-48页 |
| 3.1 实验条件 | 第34-35页 |
| 3.2 溶液配比对薄膜磁性的影响 | 第35-38页 |
| 3.3 在激光刻蚀的ITO衬底上沉积图案化FeCoZr薄膜 | 第38-45页 |
| 3.3.1 ITO衬底的激光处理和电沉积条件 | 第38-39页 |
| 3.3.2 条纹方向与外加磁场平行时FeCoZr薄膜的磁特性 | 第39-41页 |
| 3.3.3 不加外场时条纹阵列的FeCoZr薄膜的磁特性 | 第41-44页 |
| 3.3.4 理论分析 | 第44-45页 |
| 3.4 小结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第四章 电沉积FeCoCd薄膜的制备与磁性研究 | 第48-61页 |
| 4.1 样品制备条件 | 第48-49页 |
| 4.2 Fe~(2+)、Co~(2+)比对FeCoCd薄膜的影响 | 第49-51页 |
| 4.3 沉积电位对FeCoCd薄膜的影响 | 第51-55页 |
| 4.4 沉积时间对FeCoCd薄膜的影响 | 第55-58页 |
| 4.5 小结 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第五章 电沉积FeCo薄膜 | 第61-68页 |
| 5.1 实验条件 | 第61-62页 |
| 5.2 Cu衬底上以激光刻蚀FeCo薄膜并图案化 | 第62-65页 |
| 5.2.1 激光刻蚀FeCo薄膜并弯曲薄膜 | 第62-63页 |
| 5.2.2 衬底曲率及条纹宽度对薄膜磁性的影响 | 第63-65页 |
| 5.3 PET衬底上以激光刻蚀FeCo薄膜并图案化 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第六章 总结 | 第68-71页 |
| 在学期间的研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
