摘要 | 第9-10页 |
ABSTRACT | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 研究背景 | 第12-14页 |
1.2 太阳能选择性吸收光热涂层的基本概念 | 第14-15页 |
1.3 太阳能选择性吸收光热涂层的分类及原理 | 第15-17页 |
1.4 太阳能选择性吸收光热涂层的制备方法 | 第17-18页 |
1.5 太阳能选择性吸收光热涂层研究现状 | 第18-20页 |
1.6 无氧添加型太阳能选择性吸收光热涂层 | 第20页 |
1.7 主要研究内容及研究目标 | 第20-22页 |
第二章 光热涂层的制备和结构性能表征 | 第22-34页 |
2.1 实验研究路线流程图 | 第22-23页 |
2.2 磁控溅射技术 | 第23-25页 |
2.3 实验与测试设备 | 第25-30页 |
2.3.1 吸收率测试 | 第26-27页 |
2.3.2 发射率测试 | 第27页 |
2.3.3 涂层厚度测试 | 第27-28页 |
2.3.4 X射线衍射测试 | 第28页 |
2.3.5 拉曼光谱分析 | 第28页 |
2.3.6 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第28-29页 |
2.3.7 涂层表面形貌分析 | 第29-30页 |
2.4 实验材料 | 第30页 |
2.5 基片的选择与处理 | 第30-31页 |
2.5.1 基片的选择 | 第30-31页 |
2.5.2 基片的清洗 | 第31页 |
2.6 材料体系的设计 | 第31-32页 |
2.7 涂层成分的选择 | 第32-34页 |
第三章 光热涂层的工艺参数优化 | 第34-46页 |
3.1 铜层的优化设计 | 第34-37页 |
3.1.1 铜层镀膜温度的优化 | 第34-35页 |
3.1.2 铜层镀膜时间的优化 | 第35-36页 |
3.1.3 铜层镀膜电流的优化 | 第36-37页 |
3.2 TiN/TiSiN/SiN层厚度的优化 | 第37-41页 |
3.2.1 TiN层镀膜时间的优化 | 第38-39页 |
3.2.2 TiSiN层镀膜时间的优化 | 第39-40页 |
3.2.3 SiN层镀膜时间的优化 | 第40-41页 |
3.3 TiSiN层成分比例的调控 | 第41-43页 |
3.3.1 TiSiN层中Ti靶电流的调控 | 第41-42页 |
3.3.2 TiSiN层中Si靶电流的调控 | 第42-43页 |
3.4 实验样品稳定性的验证 | 第43-44页 |
3.5 本章小结 | 第44-46页 |
第四章 光热涂层的分析测试 | 第46-58页 |
4.1 Cu/TiN/TiSiN/SiN太阳能选择性吸收光热涂层分层叠加性能分析 | 第46-48页 |
4.2 光热涂层厚度的测量 | 第48-49页 |
4.3 光热涂层晶型的测试 | 第49页 |
4.4 光热涂层键合类型的测试 | 第49-52页 |
4.5 光热涂层热稳定性的测试 | 第52-56页 |
4.5.1 真空中耐温测试 | 第52-53页 |
4.5.2 空气中耐温测试 | 第53-54页 |
4.5.3 拉曼光谱测试 | 第54-55页 |
4.5.4 原子力显微镜测试 | 第55-56页 |
4.6 本章小结 | 第56-58页 |
第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
5.1 结论 | 第58页 |
5.2 展望 | 第58-59页 |
5.3 创新点 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
附录Ⅰ:攻读硕士期间论文专利和取得的其他成果 | 第68-70页 |
附件 | 第70页 |