| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题背景 | 第9-10页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第10-12页 |
| 1.2.1 半导体光催化剂 | 第10-11页 |
| 1.2.2 二氧化钛光催化机理 | 第11-12页 |
| 1.3 二氧化钛纳米带/线的制备 | 第12-14页 |
| 1.3.1 阳极氧化法 | 第12页 |
| 1.3.2 模板法 | 第12-13页 |
| 1.3.3 水热法 | 第13-14页 |
| 1.4 二氧化钛光催化的应用 | 第14-16页 |
| 1.4.1 光催化分解水产氢 | 第14页 |
| 1.4.2 光催化降解污染物 | 第14-15页 |
| 1.4.3 光催化抗菌、消毒 | 第15页 |
| 1.4.4 光催化自洁净材料 | 第15-16页 |
| 1.5 二氧化钛光催化剂表面改性 | 第16-18页 |
| 1.5.1 半导体复合 | 第16-17页 |
| 1.5.2 二氧化钛表面沉积贵金属 | 第17页 |
| 1.5.3 二氧化钛表面敏化 | 第17-18页 |
| 1.6 课题研究的目的、意义、内容 | 第18-19页 |
| 第二章 以二氧化钛纳米粉为钛源的纳米带的制备 | 第19-30页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 实验部分 | 第19-22页 |
| 2.2.1 主要仪器与试剂 | 第19-20页 |
| 2.2.2 实验过程 | 第20-21页 |
| 2.2.3 性能表征 | 第21页 |
| 2.2.4 光催化性能检测 | 第21-22页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第22-26页 |
| 2.3.1 氢氧化钠浓度对二氧化钛纳米带形貌的影响 | 第22-23页 |
| 2.3.2 煅烧热处理的制度确定 | 第23-24页 |
| 2.3.3 不同煅烧温度对二氧化钛纳米带晶型的影响 | 第24-25页 |
| 2.3.4 二氧化钛纳米带的光催化性能研究 | 第25-26页 |
| 2.4 二氧化钛纳米带的生长机理 | 第26-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 以钛片为钛源的二氧化钛纳米线的制备 | 第30-45页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-33页 |
| 3.2.1 主要仪器与试剂 | 第31页 |
| 3.2.2 实验过程 | 第31-32页 |
| 3.2.3 实验方案 | 第32-33页 |
| 3.2.4 性能表征 | 第33页 |
| 3.2.5 光催化性能检测 | 第33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 3.3.1 实验最佳参数的确定 | 第33-37页 |
| 3.3.2 二氧化钛纳米线薄膜及其前驱体的SEM分析 | 第37-39页 |
| 3.3.3 二氧化钛纳米线薄膜的光学性能研究 | 第39-40页 |
| 3.3.4 二氧化钛纳米线薄膜的光催化性能研究 | 第40页 |
| 3.4 二次水热法制备二氧化钛纳米线薄膜 | 第40-43页 |
| 3.5 以钛片为钛源制备二氧化钛纳米线薄膜的机理 | 第43-44页 |
| 3.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 Ag掺杂的二氧化钛纳米带/线薄膜的制备及光催化性能研究 | 第45-55页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 4.2.1 主要仪器与试剂 | 第45-46页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第46-47页 |
| 4.2.3 性能表征 | 第47页 |
| 4.2.4 光催化性能检测 | 第47页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第47-52页 |
| 4.3.1 Ag沉积的二氧化钛纳米带/线的图像分析 | 第47-48页 |
| 4.3.2 不同AgNO3浓度下试样的XRD图谱 | 第48-49页 |
| 4.3.3 不同AgNO3浓度下试样的紫外可见漫反射光谱 | 第49-50页 |
| 4.3.4 光催化性能检测 | 第50-52页 |
| 4.4 Ag沉积二氧化钛纳米带/线薄膜的光催化机理 | 第52-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-58页 |
| 5.1 本文总结 | 第55-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及成果 | 第64页 |
