| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 课题的来源和意义 | 第14-16页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第14页 |
| 1.1.2 课题研究的背景及意义 | 第14-16页 |
| 1.2 钛酸锶电瓷基片的特性 | 第16-18页 |
| 1.2.1 钛酸锶电瓷基片的特征 | 第16页 |
| 1.2.2 钛酸锶电瓷基片加工存在的问题 | 第16-18页 |
| 1.3 磁流变抛光技术国内外研究现状 | 第18-21页 |
| 1.3.1 磁流变加工技术研究现状 | 第18-20页 |
| 1.3.2 磁流变抛光力特性研究现状 | 第20-21页 |
| 1.4 钛酸锶陶瓷材料超精密加工国内外研究现状 | 第21-23页 |
| 1.5 本课题主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 动态磁场磁流变抛光加工效果研究及实验装置研制 | 第24-44页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 动态磁场磁流变抛光原理及试验方法 | 第25-29页 |
| 2.2.1 动态磁场磁流变抛光加工原理与试验装置 | 第25-27页 |
| 2.2.2 试验设计与试验条件 | 第27-28页 |
| 2.2.3 检测方法及设备 | 第28-29页 |
| 2.3 动态磁场磁流变抛光加工效果研究 | 第29-40页 |
| 2.3.1 动态磁场磁流变抛光垫的恢复能力 | 第29-31页 |
| 2.3.2 动态磁场单点磁流变抛光特性分析 | 第31-32页 |
| 2.3.3 不同永磁体旋转偏心距对加工效果的影响 | 第32-33页 |
| 2.3.4 不同磨料种类对加工效果的影响 | 第33-35页 |
| 2.3.5 不同加工间隙对加工效果的影响 | 第35-36页 |
| 2.3.6 不同加工时间对加工效果的影响 | 第36-37页 |
| 2.3.7 不同工件材料的加工效果 | 第37-39页 |
| 2.3.8 不同加工方式的加工效果 | 第39-40页 |
| 2.4 动态磁场集群磁流变抛光实验装置研制 | 第40-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第三章 动态磁场磁流变抛光力特性研究 | 第44-56页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 动态磁场磁流变抛光力测量方法及测量装置 | 第44-46页 |
| 3.3 动态磁场磁流变抛光力特性分析 | 第46-49页 |
| 3.3.1 动态磁场磁流变抛光力分布 | 第46-47页 |
| 3.3.2 动态磁场磁流变抛光的pv值分析 | 第47-49页 |
| 3.4 永磁体转速对磁流变抛光力的影响 | 第49-52页 |
| 3.4.1 永磁体转速对磁流变抛光力大小的影响 | 第49-50页 |
| 3.4.2 永磁体转速对磁流变抛光力动特性的影响 | 第50-52页 |
| 3.5 加工间隙对磁流变抛光力的影响 | 第52-53页 |
| 3.6 工件运动方式对磁流变抛光力的影响 | 第53-54页 |
| 3.7 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 钛酸锶电瓷基片的动态磁场磁流变抛光加工 | 第56-77页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 钛酸锶电瓷基片动态磁场磁流变抛光试验方法 | 第56-57页 |
| 4.2.1 试验材料 | 第56页 |
| 4.2.2 试验设计与试验条件 | 第56-57页 |
| 4.3 钛酸锶电瓷基片动态磁场磁流变抛光加工研究 | 第57-75页 |
| 4.3.1 钛酸锶电瓷基片动态磁场单点磁流变抛光特性分析 | 第57-58页 |
| 4.3.2 不同磨料种类对加工效果的影响 | 第58-60页 |
| 4.3.3 不同加工间隙对加工效果的影响 | 第60-61页 |
| 4.3.4 不同磨料粒径对加工效果的影响 | 第61-62页 |
| 4.3.5 不同永磁体转速对加工效果的影响 | 第62-64页 |
| 4.3.6 不同工件转速对加工效果的影响 | 第64-66页 |
| 4.3.7 不同羰基铁粉粒径对加工效果的影响 | 第66-68页 |
| 4.3.8 不同磨料浓度对加工效果的影响 | 第68-69页 |
| 4.3.9 不同羰基铁粉浓度对加工效果的影响 | 第69-71页 |
| 4.3.10 不同永磁体旋转偏心距对加工效果的影响 | 第71-72页 |
| 4.3.11 不同加工时间对加工效果的影响 | 第72-73页 |
| 4.3.12 不同工件的摆动幅度对加工效果的影响 | 第73-75页 |
| 4.3.13 最佳工艺参数的加工效果 | 第75页 |
| 4.4 本章小结 | 第75-77页 |
| 第五章 基于动态磁场磁流变抛光的钛酸锶电瓷基片材料去除机理研究 | 第77-85页 |
| 5.1 引言 | 第77页 |
| 5.2 钛酸锶电瓷基片动态磁场磁流变抛光的材料去除过程 | 第77-79页 |
| 5.2.1 钛酸锶电瓷基片不同加工时间的材料去除作用 | 第77-78页 |
| 5.2.2 钛酸锶电瓷基片径向上不同位置的材料去除作用 | 第78-79页 |
| 5.3 磨料种类对钛酸锶电瓷基片去除机理的影响 | 第79-81页 |
| 5.4 磨料粒径对钛酸锶电瓷基片去除机理的影响 | 第81-82页 |
| 5.5 加工间隙对钛酸锶电瓷基片去除机理的影响 | 第82-83页 |
| 5.6 本章小结 | 第83-85页 |
| 总结与展望 | 第85-88页 |
| 参考文献 | 第88-93页 |
| 攻读学位期间所取得的研究成果 | 第93-95页 |
| 致谢 | 第95页 |
