纳米压印工艺及模板制备的研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 纳米加工技术 | 第10-11页 |
| 1.2 纳米压印概述 | 第11-12页 |
| 1.3 纳米压印工艺 | 第12-14页 |
| 1.3.1 热纳米压印 | 第12-13页 |
| 1.3.2 紫外纳米压印 | 第13-14页 |
| 1.4 纳米压印的应用 | 第14-16页 |
| 1.5 本文的研究背景与工作 | 第16-18页 |
| 第二章 无残余层复合纳米压印技术 | 第18-48页 |
| 2.1 引言 | 第18-19页 |
| 2.2 复合模板的制备与应用 | 第19-25页 |
| 2.2.1 复合模板的结构 | 第19-20页 |
| 2.2.2 复合模板的制备工艺 | 第20-23页 |
| 2.2.3 复合模板用于紫外纳米压印 | 第23-25页 |
| 2.3 复合纳米压印过程中影响残余层的因素 | 第25-38页 |
| 2.3.1 纳米压印胶厚度的影响 | 第25-30页 |
| 2.3.2 纳米压印胶表面张力的影响 | 第30-33页 |
| 2.3.3 纳米压印胶粘度的影响 | 第33-35页 |
| 2.3.4 压印压力的影响 | 第35-38页 |
| 2.4 无残余层复合纳米压印 | 第38-46页 |
| 2.4.1 550nm周期光栅的无残余层压印 | 第39-43页 |
| 2.4.2 其他结构的无残余层压印 | 第43-46页 |
| 2.5 小结 | 第46-48页 |
| 第三章 镍纳米压印模板的制备与应用 | 第48-66页 |
| 3.1 引言 | 第48-49页 |
| 3.2 镍的电镀工艺 | 第49-55页 |
| 3.2.1 电镀技术简介 | 第49-50页 |
| 3.2.2 镍的电镀工艺参数 | 第50-55页 |
| 3.3 镍模板的制备工艺 | 第55-62页 |
| 3.3.1 基于CN975的镍模板复制工艺 | 第56-58页 |
| 3.3.2 实验结果与分析 | 第58-62页 |
| 3.4 镍模板的应用 | 第62-65页 |
| 3.5 小结 | 第65-66页 |
| 第四章 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-78页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
