摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-10页 |
第一章 绪论 | 第14-58页 |
1.1 引言 | 第14-16页 |
1.2 光通信的演进和发展 | 第16-21页 |
1.3 关键器件与介质及非线性效应 | 第21-30页 |
1.3.1 关键器件与介质 | 第21-23页 |
1.3.2 非线性效应 | 第23-30页 |
1.4 硅光子学与应变硅的研究现状 | 第30-39页 |
1.4.1 硅的特性 | 第30-31页 |
1.4.2 硅光子学研究现状 | 第31-33页 |
1.4.3 应变硅的研究现状 | 第33-36页 |
1.4.4 实现应变硅的方法 | 第36-37页 |
1.4.5 应变硅中应力测量 | 第37-38页 |
1.4.6 应变硅的研究重点 | 第38-39页 |
1.5 基于SOA的全光信号处理技术 | 第39-40页 |
1.6 论文的主要内容和创新 | 第40-43页 |
1.6.1 论文主要内容 | 第40-42页 |
1.6.2 论文主要创新 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-58页 |
第二章 基于SIMOX 3D雕刻技术的应变硅 | 第58-82页 |
2.1 应变、应力及其关系 | 第58-62页 |
2.2 SIMOX技术 | 第62-63页 |
2.3 SIMOX 3D雕刻技术 | 第63-64页 |
2.4 SIMOX 3D雕刻技术的物理过程 | 第64-69页 |
2.4.1 SIMOX的物理过程 | 第64-65页 |
2.4.2 SIMOX参数优化 | 第65-66页 |
2.4.3 SIMOX过程的应力分析 | 第66-69页 |
2.5 SIMOX 3D雕刻技术的力学模型 | 第69-72页 |
2.5.1 应力产生模型 | 第70页 |
2.5.2 应力松弛模型 | 第70-71页 |
2.5.3 力学模型验证 | 第71-72页 |
2.6 样品制作——SIMOX 3D雕刻的埋层光波导 | 第72-73页 |
2.7 结果与分析 | 第73-77页 |
2.7.1 应力测量结果 | 第73-75页 |
2.7.2 应力模拟结果 | 第75-76页 |
2.7.3 分析和讨论 | 第76-77页 |
2.8 本章小结 | 第77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
第三章 基于针尖增强拉曼的纳米尺度应力测量 | 第82-102页 |
3.1 拉曼散射理论 | 第82-85页 |
3.1.1 拉曼散射理论简介 | 第82-83页 |
3.1.2 拉曼散射理论表述 | 第83-85页 |
3.2 针尖增强拉曼光谱技术 | 第85页 |
3.3 针尖增强拉曼实验平台 | 第85-87页 |
3.4 TERS拉曼谱峰值偏移-应力模型 | 第87-94页 |
3.4.1 TERS系统拉曼散射模型 | 第87-91页 |
3.4.2 TERS拉曼谱峰偏移-应力模型 | 第91-94页 |
3.5 测量结果与分析 | 第94-98页 |
3.5.1 TERS拉曼信号增强 | 第94-95页 |
3.5.2 SIMOX 3D雕刻硅波导中应力和应变 | 第95-97页 |
3.5.3 应变诱导的二阶非线性极化率 | 第97-98页 |
3.6 本章小结 | 第98页 |
参考文献 | 第98-102页 |
第四章 基于SOA中NPR效应的全光量化编码器 | 第102-122页 |
4.1 全光模数转换器的研究现状 | 第102-104页 |
4.2 SOA中的NPR效应 | 第104-105页 |
4.3 基于SOA中NPR效应的全光量化编码方案 | 第105-107页 |
4.4 全光量化编码方案的理论模型 | 第107-110页 |
4.5 数值仿真 | 第110-116页 |
4.5.1 独立PSW的转移函数 | 第110-114页 |
4.5.2 NPR-QC的转移函数 | 第114-116页 |
4.6 全光量化编码方案性能分析 | 第116-118页 |
4.6.1 量化编码性能 | 第116-117页 |
4.6.2 速率以及可扩展性 | 第117-118页 |
4.7 本章小结 | 第118-119页 |
参考文献 | 第119-122页 |
第五章 总结与展望 | 第122-126页 |
5.1 论文工作总结 | 第122-123页 |
5.2 论文工作展望 | 第123-126页 |
缩略语 | 第126-130页 |
致谢 | 第130-134页 |
博士期间发表的学术论文清单 | 第134页 |