| 内容摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 氮化硅的性能、应用及合成方法 | 第12-17页 |
| 1.2.1 氮化硅的性能和应用 | 第12-15页 |
| 1.2.2 氮化硅的合成方法 | 第15-17页 |
| 1.2.2.1 直接氮化法 | 第15页 |
| 1.2.2.2 碳热还原法 | 第15-16页 |
| 1.2.2.3 卤化硅氨解法 | 第16页 |
| 1.2.2.4 制备前驱体等其他方法 | 第16-17页 |
| 1.3 白光LED荧光粉的研究进展及合成方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1 白光LED荧光粉的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.3.2 白光LED荧光粉的合成方法 | 第18-20页 |
| 1.3.2.1 高温固相法 | 第18页 |
| 1.3.2.2 水热合成法 | 第18-19页 |
| 1.3.2.3 溶胶-凝胶法 | 第19页 |
| 1.3.2.4 微波辐射等其他方法 | 第19-20页 |
| 1.4 氮掺杂二氧化钛的研究现状及合成方法 | 第20-23页 |
| 1.4.1 氮掺杂二氧化钛的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.4.2 氮掺杂二氧化钛的合成方法 | 第21-23页 |
| 1.4.2.1 溅射法 | 第21页 |
| 1.4.2.2 高温焙烧法 | 第21-22页 |
| 1.4.2.3 钛醇盐水解法 | 第22页 |
| 1.4.2.4 机械化学法等其他制备方法 | 第22-23页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第23-24页 |
| 参考文献 | 第24-29页 |
| 第二章 氨氮化工艺制备α相氮化硅 | 第29-39页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-36页 |
| 2.3.1 温度对α-Si_3N_4制备的影响 | 第32-33页 |
| 2.3.2 烧结气氛对氮化硅制备的影响 | 第33-34页 |
| 2.3.3 氮化剂对氮化硅制备的影响 | 第34-35页 |
| 2.3.4 氮化剂对氮化硅微观形貌的影响 | 第35-36页 |
| 2.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-39页 |
| 第三章 氨氮化工艺制备白光荧光粉 | 第39-54页 |
| 3.1 引言 | 第39-40页 |
| 3.2 实验部分 | 第40-41页 |
| 3.3 结果分析与讨论 | 第41-48页 |
| 3.3.1 不同Eu~(2+)浓度对XRD图谱的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2 不同Eu~(2+)浓度对漫反射光谱的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.3 不同Eu~(2+)浓度对荧光光谱的影响 | 第43-46页 |
| 3.3.4 Eu~(2+)激发的白光荧光粉的热稳定性分析 | 第46-48页 |
| 3.3.5 不同Eu~(2+)浓度荧光粉的色坐标 | 第48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 第四章 氮掺杂二氧化钛的制备及其可见光催化性能的研究 | 第54-67页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 4.3 结果分析与讨论 | 第55-63页 |
| 4.3.1 烧结温度对XRD图谱的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.2 烧结温度对紫外可见吸收光谱的影响 | 第57页 |
| 4.3.3 烧结温度对可见光催化性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.4 烧结温度对微观结构的影响 | 第58-59页 |
| 4.3.5 氮化剂用量对XRD图谱的影响 | 第59-60页 |
| 4.3.6 氮化剂用量对紫外可见吸收光谱的影响 | 第60-61页 |
| 4.3.7 氮化剂用量对可见光催化性能的影响 | 第61-62页 |
| 4.3.8 光催化剂的稳定性 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第五章 论文总结 | 第67-69页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
