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直流偏置下正弦激励铁芯材料损耗计算及研究

致谢第4-6页
摘要第6-7页
Abstract第7页
1. 绪论第10-22页
    1.1. 引言第10-11页
    1.2. 相关原理介绍第11-16页
        1.2.1. 铁磁材料介绍第11-12页
        1.2.2. 铁磁材料中损耗形成机理第12-13页
        1.2.3. 铁磁材料磁化过程第13-15页
        1.2.4. 损耗分类与介绍第15-16页
    1.3. 国内外发展现状介绍第16-21页
    1.4. 本文主要工作第21-22页
2. 实验测试平台搭建第22-31页
    2.1. 测试平台搭建第22-26页
    2.2. 数据测量与平台误差第26-30页
    2.3. 本章小结第30-31页
3. 直流偏置磁场测量第31-44页
    3.1. 实验测量方法介绍第31-33页
    3.2. 退磁方式的选择第33-35页
    3.3. 实验平台测试改进第35-39页
    3.4. 直流偏置磁场位置确定第39-43页
    3.5. 本章小结第43-44页
4. 直偏磁场情况下磁滞回线预测第44-56页
    4.1. 无直偏磁场下磁滞回线预测第44-46页
    4.2. 直偏磁场下磁滞回线预测第46-52页
    4.3. 直流偏置激励下损耗变化情况第52-55页
    4.4. 本章小结第55-56页
5. 实验数据库应用与验证第56-68页
    5.1. 气隙样品线圈第56-58页
    5.2. 气隙线圈的有限元仿真设置第58-60页
    5.3. 气隙线圈的有限元仿真结果第60-64页
    5.4. 气隙线圈损耗计算与验证第64-67页
    5.5. 本章小结第67-68页
6. 结论与展望第68-70页
    6.1. 结论第68页
    6.2. 研究展望第68-70页
参考文献第70-76页
作者简历第76页

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