软模板法制备BN纳米材料
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| ·氮化硼的结构 | 第11-12页 |
| ·氮化硼纳米材料的性质与应用 | 第12-13页 |
| ·氮化硼纳米材料的制备方法 | 第13-21页 |
| ·溶剂热合成法 | 第14-15页 |
| ·气相沉积法 | 第15-17页 |
| ·高温热解法 | 第17-19页 |
| ·模板法 | 第19-21页 |
| ·BN基纳米材料的发光 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究目的与意义 | 第22-25页 |
| ·研究目的和意义 | 第22-23页 |
| ·主要研究内容 | 第23页 |
| ·研究方案 | 第23页 |
| ·创新性 | 第23-25页 |
| 第二章 实验与表征 | 第25-27页 |
| ·实验仪器及厂家 | 第25页 |
| ·实验药品以及厂家 | 第25-26页 |
| ·产物表征方法 | 第26-27页 |
| ·X射线衍射仪（XRD） | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第26页 |
| ·傅里叶变换红外光谱（FTIR） | 第26页 |
| ·荧光光谱（PL） | 第26-27页 |
| 第三章 软模板法辅助制备高结晶度纳米氮化硼 | 第27-47页 |
| ·实验方法 | 第27-30页 |
| ·实验工艺流程 | 第27-30页 |
| ·实验过程 | 第30页 |
| ·前驱体表征和分析 | 第30-32页 |
| ·前驱体的XRD分析 | 第31页 |
| ·前驱体的FTIR分析 | 第31-32页 |
| ·PEG模板法辅助 | 第32-40页 |
| ·制备杂化体方法的影响 | 第32-34页 |
| ·不同杂化方法的XRD分析 | 第33-34页 |
| ·不同杂化方法的SEM分析 | 第34页 |
| ·不同氨热处理温度的影响 | 第34-36页 |
| ·不同氨热处理温度的XRD分析 | 第35-36页 |
| ·不同氨热处理温度的SEM分析 | 第36页 |
| ·模板剂的用量 | 第36-38页 |
| ·PEG2000不同用量的XRD分析 | 第37页 |
| ·PEG2000不同用量的SEM分析 | 第37-38页 |
| ·PEG不同分子量的影响 | 第38-40页 |
| ·PEG不同分子量的XRD分析 | 第38-39页 |
| ·PEG不同分子量的SEM分析 | 第39-40页 |
| ·表面活性剂辅助合成 | 第40-45页 |
| ·不同氨热处理温度的影响 | 第40-42页 |
| ·不同氨热处理温度的XRD分析 | 第40-42页 |
| ·不同氨热处理温度的SEM分析 | 第42页 |
| ·表面活性剂的用量 | 第42-44页 |
| ·十八胺不同用量的XRD分析 | 第42-43页 |
| ·十八胺不同用量的SEM分析 | 第43-44页 |
| ·不同表面活性剂的影响 | 第44-45页 |
| ·不同表面活性剂的XRD分析 | 第44-45页 |
| ·不同表面活性剂的SEM分析 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 氮化硼纳米材料的发光 | 第47-59页 |
| ·PEG2000辅助合成样品 | 第47-51页 |
| ·PEG2000辅助合成样品的XRD分析 | 第48-49页 |
| ·PEG2000辅助合成样品的FTIR分析 | 第49-50页 |
| ·PEG2000辅助合成样品的PL光谱分析 | 第50-51页 |
| ·有无软模板剂辅助合成 | 第51-53页 |
| ·有无软模板剂辅助合成的FTIR分析 | 第51-52页 |
| ·有无软模板剂辅助合成的荧光光谱分析 | 第52-53页 |
| ·不同分子量PEG对发光性能的影响 | 第53-55页 |
| ·PEG不同分子量的FTIR分析 | 第53-54页 |
| ·PEG不同分子量的PL谱分析 | 第54-55页 |
| ·表面活性剂对发光性能的影响 | 第55-57页 |
| ·不同表面活性剂的FTIR分析 | 第55-56页 |
| ·不同表面活性剂的PL谱分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 软模板法辅助合成氮化硼的机理 | 第59-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的相关科研成果 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
