基于绿色镀膜技术制备金属/SiO2光衰减片研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| ·课题背景与意义 | 第10-11页 |
| ·光衰减器的发展 | 第11-13页 |
| ·光衰减器的发展种类 | 第11-12页 |
| ·光衰减器的应用领域 | 第12-13页 |
| ·绿色镀膜技术发展现状 | 第13-15页 |
| ·薄膜材料的制备方法 | 第13页 |
| ·绿色镀膜技术特点 | 第13-14页 |
| ·常用真空镀膜技术 | 第14页 |
| ·真空蒸发镀膜技术特点 | 第14-15页 |
| ·课题研究的内容 | 第15-16页 |
| 第2章 实验方案与研究方法 | 第16-27页 |
| ·实验材料及设备 | 第16-19页 |
| ·实验材料 | 第16-17页 |
| ·实验用主要仪器设备 | 第17-19页 |
| ·实验方案及工艺参数设计 | 第19-21页 |
| ·工艺流程设计 | 第21-23页 |
| ·材料及设备清洗 | 第22页 |
| ·金属/SiO_2 光衰减片制备操作过程 | 第22-23页 |
| ·真空度与源基距对镀膜质量的影响 | 第23-25页 |
| ·研究方法 | 第25-26页 |
| ·膜层元素成分分析 | 第25页 |
| ·膜剖面结构研究 | 第25页 |
| ·膜表面形貌研究 | 第25-26页 |
| ·透光率测试 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 工艺参数对光衰减片组织与结构影响 | 第27-40页 |
| ·工艺参数对Al 膜影响 | 第27-29页 |
| ·工艺参数对Cu 膜影响 | 第29-31页 |
| ·工艺参数对Cr 膜影响 | 第31-33页 |
| ·工艺参数对Ni 膜影响 | 第33-35页 |
| ·四种金属膜结构对比 | 第35-37页 |
| ·蒸镀金属成膜分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 光衰减片透光率及光衰减机理研究 | 第40-50页 |
| ·工艺参数对光衰减片透光率的影响 | 第40-44页 |
| ·Al 膜透光率分析 | 第40-41页 |
| ·Cu 膜透光率分析 | 第41-42页 |
| ·Cr 膜透光率分析 | 第42-43页 |
| ·Ni 膜透光率分析 | 第43-44页 |
| ·光衰减片实现光衰减的机理分析 | 第44-46页 |
| ·对光的反射衰减 | 第44-45页 |
| ·对光的吸收衰减 | 第45-46页 |
| ·光衰减片组织结构对透光率性能的影响 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
