气相碳源合成碳掺杂Ti-O薄膜的正交试验设计及其力学和光催化性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·薄膜的概述 | 第10页 |
| ·二氧化钛的概述 | 第10-17页 |
| ·二氧化钛的结构 | 第10-11页 |
| ·光催化的原理 | 第11-12页 |
| ·影响光催化的因素 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·二氧化钛的应用 | 第15-16页 |
| ·存在的问题和改性方法 | 第16-17页 |
| ·研究的意义和内容 | 第17-19页 |
| 2 实验及表征方法 | 第19-22页 |
| ·实验原料 | 第19页 |
| ·实验设备 | 第19-20页 |
| ·表征方法 | 第20-22页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第20页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第20-21页 |
| ·表面轮廓仪(Profiler) | 第21页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第21页 |
| ·纳米力学系统 | 第21-22页 |
| 3 C：Ti-O薄膜的制备 | 第22-24页 |
| ·基底清洗 | 第22页 |
| ·反应磁控溅射制备C：Ti-O薄膜 | 第22页 |
| ·正交设计 | 第22-24页 |
| 4 力学性能研究 | 第24-30页 |
| ·纳米硬度和杨氏模量 | 第24-26页 |
| ·膜基结合力测试 | 第26-28页 |
| ·纳米划擦实验 | 第28-30页 |
| 5 薄膜的形貌、成分结构及光催化性能研究 | 第30-52页 |
| ·表面形貌 | 第30-34页 |
| ·Profiler | 第30-32页 |
| ·AFM | 第32-34页 |
| ·物相分析 | 第34页 |
| ·成分分析 | 第34-43页 |
| ·光催化性能 | 第43-45页 |
| ·极差分析 | 第45-49页 |
| ·验证性试验 | 第49-52页 |
| 6 退火对C：Ti-O薄膜力学、光催化性能的影响 | 第52-73页 |
| ·薄膜制备及退火 | 第52-53页 |
| ·表面形貌 | 第53-58页 |
| ·Profiler | 第53-56页 |
| ·AFM | 第56-58页 |
| ·成分结构 | 第58-66页 |
| ·XPS | 第58-65页 |
| ·XRD | 第65-66页 |
| ·力学性能 | 第66-71页 |
| ·硬度和模量 | 第66-68页 |
| ·膜基结合力 | 第68-71页 |
| ·光催化性能 | 第71-73页 |
| 7 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 硕士期间科研成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
