| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·稀磁半导体的研究概况 | 第10-15页 |
| ·稀磁半导体的研究概况 | 第10-11页 |
| ·稀磁半导体的磁性来源 | 第11-15页 |
| ·In_2O_3基稀磁半导体 | 第15-20页 |
| ·In_2O_3的结构 | 第15-16页 |
| ·In_2O_3基稀磁半导体的研究现状 | 第16-20页 |
| ·In_2O_3基稀磁半导体存在的问题 | 第20页 |
| ·本论文的研究目的与研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 样品的制备与表征方法 | 第22-28页 |
| ·薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·实验设备与实验材料 | 第23页 |
| ·检测方法 | 第23-28页 |
| ·X射线衍射（XRD） | 第23-24页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS） | 第24-25页 |
| ·X射线吸收精细结构吸收谱（XAFS） | 第25-26页 |
| ·电输运性能的测量 | 第26页 |
| ·磁学性能的测量 | 第26页 |
| ·光学性能的测量 | 第26-28页 |
| 第三章Fe、Sn共掺杂In_2O_3基稀磁半导体薄膜的制备、结构与性能 | 第28-45页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验过程 | 第28-29页 |
| ·薄膜性能测试结果与讨论 | 第29-43页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的X射线衍射分析 | 第29页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的价态分析 | 第29-30页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的局域结构分析 | 第30-35页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜O K边分析 | 第35-36页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的磁性分析 | 第36-37页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的输运性能分析 | 第37-40页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的磁电阻特性分析 | 第40-43页 |
| ·Fe、Sn共掺杂In_2O_3薄膜的磁性来源 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章Fe、Mg共掺杂In_2O_3基稀磁半导体薄膜的制备、结构与性能 | 第45-58页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验过程 | 第45页 |
| ·薄膜性能测试结果与讨论 | 第45-57页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的X射线衍射分析 | 第45-46页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的局域结构分析 | 第46-50页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的磁性分析 | 第50-51页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的输运性能分析 | 第51-53页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的磁电阻特性分析 | 第53-56页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的禁带宽度分析 | 第56-57页 |
| ·Fe、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的磁性来源 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章Mn、Mg共掺杂In_2O_3基稀磁半导体薄膜的制备、结构与性能 | 第58-69页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验过程 | 第58-59页 |
| ·薄膜性能测试结果与讨论 | 第59-67页 |
| ·Mn、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的X射线衍射分析 | 第59页 |
| ·Mn、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的局域结构分析 | 第59-63页 |
| ·Mn、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的磁性分析 | 第63-64页 |
| ·Mn、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的输运性能分析 | 第64-66页 |
| ·Mn、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的禁带宽度分析 | 第66-67页 |
| ·Mn、Mg共掺杂In_2O_3薄膜的磁性来源 | 第67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
