| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-36页 |
| ·半导体光催化技术的概述 | 第12-13页 |
| ·半导体光催化机理 | 第13-18页 |
| ·光催化机理 | 第13-16页 |
| ·光催化机理研究的争议点 | 第16-18页 |
| ·羟基自由基 | 第16-17页 |
| ·价带空穴 | 第17-18页 |
| ·吸附作用和反应位点 | 第18页 |
| ·影响光催化反应的因素 | 第18-22页 |
| ·催化剂种类 | 第18-19页 |
| ·染料结构 | 第19-20页 |
| ·pH 值的影响 | 第20页 |
| ·表面活性剂 | 第20-21页 |
| ·外加电子捕获剂 | 第21-22页 |
| ·提高半导体光催化效率的方法 | 第22-25页 |
| ·纳米光催化剂 | 第22-23页 |
| ·催化剂表面贵金属沉积 | 第23页 |
| ·金属离子掺杂 | 第23页 |
| ·复合半导体 | 第23-24页 |
| ·半导体光催化剂的光敏化 | 第24-25页 |
| ·尖晶石型光催化剂的制备方法 | 第25-29页 |
| ·水热法 | 第25-27页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第27页 |
| ·沉淀法 | 第27-28页 |
| ·微乳液法 | 第28-29页 |
| ·固相法 | 第29页 |
| ·水体中有机污染物处理技术的研究进展 | 第29-36页 |
| ·物理法 | 第30页 |
| ·物化处理法 | 第30-34页 |
| ·混凝沉降 | 第30-31页 |
| ·吸附法 | 第31页 |
| ·萃取法 | 第31页 |
| ·电化学法 | 第31页 |
| ·化学氧化法 | 第31-32页 |
| ·光催化氧化法 | 第32-34页 |
| ·高温深度氧化法 | 第34页 |
| ·生物处理法 | 第34-36页 |
| ·好氧生物处理 | 第34-35页 |
| ·厌氧生物处理 | 第35页 |
| ·厌氧-好氧联合处理法 | 第35-36页 |
| 第三章 实验方法 | 第36-41页 |
| ·实验概述 | 第36-37页 |
| ·样品制备 | 第37-38页 |
| ·原料及设备 | 第37-38页 |
| ·实验过程 | 第38页 |
| ·尖晶石型光催化剂的表征 | 第38-39页 |
| ·可见光催化性能的表征 | 第39-41页 |
| ·降解脱色率的测定 | 第39页 |
| ·化学需氧量的测定 | 第39-41页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第41-68页 |
| ·尖晶石 NAl_2O_4(N=Zn, Cu, Ni)样品的 X 射线衍射(XRD)分析 | 第41-47页 |
| ·尖晶石型 ZnAl_2O_4样品的 XRD 分析 | 第41-44页 |
| ·尖晶石型 CuAl_2O_4样品的 XRD 分析 | 第44-46页 |
| ·尖晶石型 NiAl_2O_4样品的 XRD 分析 | 第46-47页 |
| ·尖晶石 NAl_2O_4(N=Ni,Cu,Zn)样品的透射电镜(TEM)分析 | 第47-48页 |
| ·样品的紫外-可见漫反射吸收光谱(DRS)分析 | 第48-52页 |
| ·尖晶石 ZnAl_2O_4样品的 DRS 分析 | 第49-51页 |
| ·尖晶石 CuAl_2O_4样品的 DRS 分析 | 第51页 |
| ·尖晶石 NiAl_2O_4样品的 DRS 分析 | 第51-52页 |
| ·尖晶石 NAl_2O_4(N=Ni,Cu,Zn)样品的光催化性能分析 | 第52-63页 |
| ·染料溶液标准曲线绘制 | 第52-54页 |
| ·样品的光催化降解脱色率分析 | 第54-55页 |
| ·染料溶液的 COD 去除率分析 | 第55-59页 |
| ·光催化反应速率 | 第59-61页 |
| ·样品光催化性能的比较分析 | 第61-63页 |
| ·ZnAl_2O_4样品光催化活性分析 | 第63-68页 |
| ·不同水热温度对 ZnAl_2O_4样品光催化活性的影响 | 第64页 |
| ·不同 pH 值对 ZnAl_2O_4样品光催化活性的影响 | 第64-65页 |
| ·不同反应时间对 ZnAl_2O_4样品光催化活性的影响 | 第65-67页 |
| ·催化剂的用量对 ZnAl_2O_4样品光催化效果的影响 | 第67-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
