软脆晶体LBO的固结磨料抛光研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·LBO 晶体简介 | 第13页 |
| ·固结磨料抛光技术 | 第13-18页 |
| ·固结磨料抛光技术概述 | 第13-15页 |
| ·固结磨料抛光技术的研究现状 | 第15-16页 |
| ·热固型亲水性固结磨料研磨抛光垫 | 第16-18页 |
| ·软脆晶体的加工现状 | 第18-22页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第22-23页 |
| 第二章 LBO 晶体抛光无磨料抛光液的优化 | 第23-37页 |
| ·无磨料抛光液优化的实验设置 | 第23-27页 |
| ·实验材料与设备 | 第23-25页 |
| ·LBO 晶体的装夹 | 第25-26页 |
| ·研磨抛光垫的选择及修整 | 第26页 |
| ·研磨预处理 | 第26-27页 |
| ·实验设计 | 第27页 |
| ·无磨料抛光液添加剂的优化 | 第27-33页 |
| ·酸性组的抛光结果 | 第27-30页 |
| ·中性组的抛光结果 | 第30页 |
| ·碱性组的抛光结果 | 第30-32页 |
| ·结果讨论 | 第32-33页 |
| ·无磨料抛光液 pH 值的优化 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 LBO 晶体抛光固结磨料抛光垫的优化 | 第37-44页 |
| ·固结磨料抛光垫优化的实验设置 | 第37-38页 |
| ·实验材料与设备 | 第37页 |
| ·实验设计 | 第37-38页 |
| ·基体硬度对 LBO 晶体抛光的影响 | 第38-41页 |
| ·对摩擦系数的影响 | 第38页 |
| ·对材料去除率的影响 | 第38-39页 |
| ·对工具显微镜表面形貌的影响 | 第39页 |
| ·对 AFM 微观形貌和表面粗糙度的影响 | 第39-41页 |
| ·磨料浓度对 LBO 晶体抛光的影响 | 第41-42页 |
| ·对摩擦系数的影响 | 第41页 |
| ·对材料去除率的影响 | 第41页 |
| ·对工具显微镜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·对 AFM 微观形貌和表面粗糙度的影响 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 LBO 晶体抛光工艺参数的优化 | 第44-56页 |
| ·工艺优化的实验设置 | 第44-46页 |
| ·实验材料与设备 | 第44页 |
| ·研磨预处理 | 第44-45页 |
| ·抛光时间的确定 | 第45-46页 |
| ·正交实验设计 | 第46页 |
| ·抛光工艺参数优化 | 第46-54页 |
| ·对摩擦系数的影响 | 第46-48页 |
| ·对材料去除率的影响 | 第48-50页 |
| ·对表面质量的影响 | 第50-54页 |
| ·综合优化及验证 | 第54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 LBO 晶体抛光平面度的研究 | 第56-66页 |
| ·实验材料与设备 | 第56页 |
| ·装夹方式对平面度的影响 | 第56-58页 |
| ·工艺参数对平面度的影响 | 第58-65页 |
| ·抛光液流量 | 第58-59页 |
| ·转速与转速比 | 第59-61页 |
| ·压力 | 第61-63页 |
| ·摆动幅度和频率 | 第63-65页 |
| ·工艺参数优化 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| ·总结 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 在校期间的研究成果 | 第74-75页 |