| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-18页 |
| ·薄膜简介 | 第8-10页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第8-10页 |
| ·上转换发光简介 | 第10-14页 |
| ·上转换机制 | 第10-13页 |
| ·上转换发光材料 | 第13-14页 |
| ·国内外研究现状 | 第14-17页 |
| ·真空热蒸发和电子束蒸发法 | 第14-15页 |
| ·激光脉冲沉积法(PLD) | 第15-16页 |
| ·化学溶液涂层法 | 第16页 |
| ·旋转蒸发法 | 第16-17页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 基本原理与理论 | 第18-25页 |
| ·真空电阻式热蒸发沉积原理 | 第18-21页 |
| ·真空在薄膜制备过程中的作用 | 第19页 |
| ·蒸发源的选取 | 第19-21页 |
| ·稀土元素的物理化学性质及其能级结构 | 第21-23页 |
| ·稀土元素的主要物理化学性质 | 第21-22页 |
| ·三价镧系稀土离子的能级结构 | 第22-23页 |
| ·基本测试方法 | 第23-25页 |
| ·X-射线衍射分析法 | 第23页 |
| ·扫描电子显微镜分析法 | 第23-24页 |
| ·发射光谱测量方法 | 第24-25页 |
| 第三章 上转换薄膜的制备和表征 | 第25-31页 |
| ·实验所需材料和主要设备 | 第25页 |
| ·实验原料 | 第25页 |
| ·主要设备 | 第25页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的制备 | 第25-28页 |
| ·NaY_(0.835)Yb_(0.15)Tm_(0.015) F_4块状镀膜材料的制备 | 第25-27页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的退火处理 | 第28-29页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)和TiO_2复合薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Er~(3+)上转换薄膜的制备 | 第30页 |
| ·薄膜的表征 | 第30-31页 |
| ·X射线衍射分析 | 第30页 |
| ·扫描电镜分析 | 第30页 |
| ·上转换发射光谱 | 第30-31页 |
| 第四章 实验结果与分析 | 第31-49页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的表征 | 第31-36页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜结构和形貌 | 第31-32页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的上转换发光性能 | 第32-35页 |
| ·原料是否烧结对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)薄膜上转换发光性能的影响 | 第35-36页 |
| ·退火对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的影响 | 第36-39页 |
| ·退火对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)薄膜结构和形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·退火对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)薄膜的上转换发光性能 | 第38-39页 |
| ·TiO_2膜层对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)上转换薄膜的影响 | 第39-44页 |
| ·TiO_2膜层对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)薄膜结构和表面形貌的影响 | 第39-40页 |
| ·TiO_2膜层对NaYF_4:Yb~(3+),Tm~(3+)膜层上转换发光性能的影响 | 第40-44页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Er~(3+)上转换薄膜的表征 | 第44-49页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Er~(3+)薄膜结构和表面形貌 | 第44-45页 |
| ·NaYF_4:Yb~(3+),Er~(3+)薄膜的上转换发光性能 | 第45-49页 |
| 第五章 结论 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |
