多孔氧化铝模板及其金属电沉积的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-19页 |
| ·纳米材料概述 | 第8-11页 |
| ·纳米科技的发展 | 第8-9页 |
| ·纳米材料的基本特性 | 第9-10页 |
| ·一维纳米材料 | 第10-11页 |
| ·阳极氧化铝模板的发展 | 第11-16页 |
| ·膜板的分类 | 第11-12页 |
| ·AAO的结构模型 | 第12-14页 |
| ·AAO的形成机理 | 第14-16页 |
| ·阳极氧化铝为模板制备新型功能材料 | 第16-17页 |
| ·光学材料 | 第16页 |
| ·磁性纳米材料 | 第16-17页 |
| ·电学材料 | 第17页 |
| ·催化化学材料及其他 | 第17页 |
| ·课题的提出 | 第17-19页 |
| 第二章 理论基础 | 第19-26页 |
| ·模板成形的基本化学反应 | 第19页 |
| ·多孔氧化铝模板的理论模型 | 第19-24页 |
| ·基本原理 | 第19-20页 |
| ·理论推导 | 第20-22页 |
| ·稳态孔生长分析 | 第22-24页 |
| ·电沉积的基本原理 | 第24-26页 |
| 第三章 多孔氧化铝模板的制备 | 第26-40页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·试剂与设备 | 第27-28页 |
| ·制备高度有序AAO模板 | 第28-31页 |
| ·铝片预处理 | 第28-30页 |
| ·阳极氧化 | 第30-31页 |
| ·磷酸扩孔 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-38页 |
| ·多孔氧化铝模板形貌与结构表征 | 第31-34页 |
| ·纳米孔的生长过程分析 | 第34-35页 |
| ·电解电压对模板形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·搅拌对阳极氧化的影响 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 电沉积制备金属纳米线阵列 | 第40-52页 |
| ·金属的制备技术 | 第40-42页 |
| ·电沉积动力学 | 第40-41页 |
| ·模板法组装—维纳米材料的方法 | 第41-42页 |
| ·电沉积制备Co、Ni纳米线 | 第42-45页 |
| ·试剂与设备 | 第42-43页 |
| ·模板预处理 | 第43页 |
| ·直流电沉积Ni纳米线 | 第43-44页 |
| ·交流电沉积制备Co纳米线 | 第44页 |
| ·Ni单质在导电胶导电的AAO模板上的沉积 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-50页 |
| ·扩孔时间对阻挡层的影响 | 第45-46页 |
| ·形貌表征 | 第46-48页 |
| ·XRD表征 | 第48-49页 |
| ·导电胶方法制备的样品表征 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第61页 |
