| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-12页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·表面等离激元的基本原理 | 第7-10页 |
| ·金属表面等离子体 | 第7-9页 |
| ·局域表面等离子体 | 第9-10页 |
| ·双光束干涉的原理 | 第10页 |
| ·制备周期性阵列的方法 | 第10-11页 |
| ·论文的主要内容 | 第11-12页 |
| 第2章 基于胶体晶体的周期结构金属点阵的制备及其光学性质 | 第12-27页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·基于自组装法的二维胶体晶体的制备 | 第12-16页 |
| ·二维胶体晶体模板的制备 | 第12-14页 |
| ·实验结果表征与讨论 | 第14-16页 |
| ·单层金属/介质的周期结构点阵的制备及其光学性质 | 第16-20页 |
| ·单层金属/介质的周期结构点阵的制备 | 第16-17页 |
| ·实验结果表征与讨论 | 第17-19页 |
| ·数值模拟结果及分析 | 第19-20页 |
| ·多层金属/介质的周期结构点阵的制备及其光学性质 | 第20-24页 |
| ·多层金属/介质的周期结构点阵的制备及表征 | 第20-22页 |
| ·数值模拟结果及分析 | 第22-24页 |
| ·其他因素对金属/介质周期结构点阵的光学特性的影响 | 第24-26页 |
| ·介质层厚度变化对点阵透射谷位置的影响 | 第24-25页 |
| ·金属层厚度变化对点阵透射谷位置的影响 | 第25页 |
| ·介质层材料变化对点阵透射谷位置的影响 | 第25-26页 |
| ·结论 | 第26-27页 |
| 第3章 光干涉法制备表面等离激元晶体 | 第27-35页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·实验原理与设计 | 第27-31页 |
| ·相干光干涉原理 | 第27-28页 |
| ·干涉法结合光刻制备表面等离激元的实验设计 | 第28-31页 |
| ·表面等离激元的制备 | 第31-34页 |
| ·干涉实验光路的布置和调整 | 第31-33页 |
| ·干涉条纹的表征 | 第33-34页 |
| ·周期性结构的制备 | 第34页 |
| ·结论 | 第34-35页 |
| 第4章 总结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-41页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第41-42页 |
| 致谢 | 第42页 |