摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-12页 |
第1章 绪论 | 第12-23页 |
·前言 | 第12-13页 |
·半导体光催化氧化技术 | 第13-19页 |
·半导体光催化氧化的基本原理 | 第13-16页 |
·光催化活性的主要影响因素 | 第16-17页 |
·半导体光催化材料的研究现状 | 第17-19页 |
·铜基氧化物半导体材料的制备方法 | 第19-21页 |
·气相法 | 第20页 |
·固相法 | 第20页 |
·液相法 | 第20-21页 |
·本课题研究的内容和意义 | 第21-23页 |
第2章 实验部分 | 第23-29页 |
·实验试剂和仪器设备 | 第23-24页 |
·光催化剂的制备 | 第24-25页 |
·CuO纳米光催化剂的制备方法及其原理 | 第24-25页 |
·Cu_2O/BiVO_4纳米复合光催化剂的制备方法及其原理 | 第25页 |
·光催化剂的表征 | 第25-27页 |
·光催化剂的结构表征 | 第25-26页 |
·光催化剂的形貌分析 | 第26页 |
·光催化剂的光学性能分析 | 第26-27页 |
·样品的光催化性能测试 | 第27-29页 |
第3章 CuO纳米光催化剂的制备及光催化性能研究 | 第29-44页 |
·引论 | 第29-30页 |
·CuO纳米线光催化剂的制备及表征 | 第30-33页 |
·光催化剂的制备 | 第30页 |
·光催化剂的结构表征 | 第30-31页 |
·光催化剂的形貌分析 | 第31-32页 |
·光催化剂的紫外-可见吸收光谱 | 第32-33页 |
·CuO纳米线光催化剂的光降解染料罗丹明B的研究 | 第33-35页 |
·CuO纳米片光催化剂的制备及表征 | 第35-39页 |
·光催化剂的制备 | 第35-36页 |
·光催化剂的结构表征 | 第36-37页 |
·光催化剂的形貌分析 | 第37-38页 |
·光催化剂的紫外可见光谱分析 | 第38-39页 |
·CuO纳米片光催化剂光降解染料罗丹明B的研究 | 第39-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第4章 Cu_2O/BiVO_4纳米复合光催化剂的制备及光催化性能研究 | 第44-56页 |
·引论 | 第44-45页 |
·Cu_2O/BiVO_4纳米复合光催化剂的制备及表征 | 第45-54页 |
·复合光催化剂的制备 | 第45页 |
·光催化剂的结构表征 | 第45-46页 |
·光催化剂的形貌分析 | 第46-49页 |
·光催化剂的紫外可见光谱分析 | 第49-50页 |
·Cu_2O/BiVO_4纳米复合结构的光催化性能研究 | 第50-52页 |
·不同的Cu_2O负载量对其复合结构的光催化性能的影响 | 第52-54页 |
·本章小结 | 第54-56页 |
第5章 结论与展望 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-64页 |
致谢 | 第64-66页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第66-67页 |