BeO基片平整化改性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·薄膜基片种类 | 第11-14页 |
| ·氧化铝陶瓷基片 | 第12页 |
| ·碳化硅陶瓷基片 | 第12-13页 |
| ·氮化硅陶瓷基片 | 第13页 |
| ·氮化铝陶瓷基片 | 第13页 |
| ·氧化铍陶瓷基片 | 第13-14页 |
| ·薄膜基片平整化 | 第14-17页 |
| ·抛光法 | 第14-16页 |
| ·涂层法 | 第16-17页 |
| ·氮化钽薄膜材料 | 第17-18页 |
| ·本文研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 实验研究条件及方法 | 第19-28页 |
| ·实验试剂和设备 | 第19-20页 |
| ·氧化铍基片平整化工艺和分析方法 | 第20-24页 |
| ·玻璃浆料制备 | 第20-21页 |
| ·丝网印刷涂覆玻璃釉 | 第21-23页 |
| ·氧化铍陶瓷基片平整化分析方法 | 第23-24页 |
| ·氮化钽薄膜制备工艺和分析方法 | 第24-28页 |
| ·氮化钽薄膜制备工艺 | 第24-26页 |
| ·氮化钽薄膜分析方法 | 第26-28页 |
| 第三章 氧化铍陶瓷基片平整化改性研究 | 第28-49页 |
| ·玻璃釉成分设计 | 第29-33页 |
| ·玻璃釉热膨胀系数计算 | 第30-32页 |
| ·玻璃釉熔化温度计算 | 第32-33页 |
| ·玻璃粉料制备 | 第33-37页 |
| ·玻璃生料热分析 | 第34-35页 |
| ·玻璃熔浆水淬急冷 | 第35-36页 |
| ·二次球磨与超声过筛 | 第36-37页 |
| ·调制有机载体 | 第37-39页 |
| ·烧结制度对基片平整化影响 | 第39-46页 |
| ·被釉平整化对基片导热性能影响 | 第46-48页 |
| ·计算玻璃釉热导率 | 第46-47页 |
| ·被釉平整化基片的热导率 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 氧化铍基片被釉平整化效果检验 | 第49-62页 |
| ·氮化钽薄膜的制备工艺探索 | 第49-59页 |
| ·氮流量对氮化钽薄膜的影响 | 第50-53页 |
| ·衬底温度对氮化钽薄膜的影响 | 第53-55页 |
| ·溅射功率对氮化钽薄膜的影响 | 第55-57页 |
| ·热处理温度对氮化钽薄膜的影响 | 第57-59页 |
| ·被釉氧化铍基片上制备氮化钽薄膜 | 第59-60页 |
| ·被釉氧化铍基片上制备金属线条 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
