| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-14页 |
| ·研究的意义及背景 | 第11-12页 |
| ·论文结构安排 | 第12-13页 |
| 参考文献 | 第13-14页 |
| 第二章 波导型光探测器(WGPD) | 第14-30页 |
| ·波导型光探测器WGPD的研究现状 | 第14-17页 |
| ·边入光型波导光探测器 | 第15-16页 |
| ·渐变耦合型波导光探测器 | 第16页 |
| ·蘑菇型波导光探测器 | 第16-17页 |
| ·行波光探测器TWPD | 第17页 |
| ·波导型光探测器WGPD的基本原理 | 第17-18页 |
| ·WGPD的渐变耦合模型 | 第18-20页 |
| ·WGPD的性能参数 | 第20-25页 |
| ·响应速度和3dB带宽 | 第20-22页 |
| ·响应度和量子效率 | 第22页 |
| ·噪声性能和暗电流 | 第22-25页 |
| ·优化方法 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-30页 |
| 第三章 渐变耦合型波导探测器WGPD的仿真模型 | 第30-38页 |
| ·仿真软件简介 | 第30-31页 |
| ·软件仿真的数学模型 | 第31-33页 |
| ·泊松方程 | 第31-32页 |
| ·载流子连续性方程 | 第32页 |
| ·载流子输运方程 | 第32-33页 |
| ·数值解方法 | 第33-34页 |
| ·GUMMEL | 第33页 |
| ·NEWTON | 第33-34页 |
| ·BLOCK | 第34页 |
| ·组合迭代 | 第34页 |
| ·物理模型 | 第34-36页 |
| ·载流子迁移率模型 | 第34-35页 |
| ·载流子产生复合(SRH)模型 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第四章 垂直taper型波导光探测器的量子效率性能研究 | 第38-49页 |
| ·平行结构WGPD的仿真模型 | 第38-42页 |
| ·平行结构WGPD的外延层结构 | 第39-40页 |
| ·InP与InGaAs的材料参数 | 第40-42页 |
| ·平行结构WGPD的性能仿真结果 | 第42-43页 |
| ·垂直taper型WGPD的仿真模型 | 第43-45页 |
| ·垂直taper型波导光探测器的性能仿真结果 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第五章 渐变掺杂型波导光探测器的高速响应性能研究 | 第49-57页 |
| ·渐变掺杂型WGPD模型 | 第49-50页 |
| ·渐变耦合型WGPD的外延层结构 | 第50-51页 |
| ·InGaAsP的材料参数 | 第51-54页 |
| ·渐变耦合型WGPD的性能仿真结果 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第六章 波导型光探测器的实验研究 | 第57-69页 |
| ·渐变耦合型波导光探测器的外延片牛长 | 第57-59页 |
| ·外延片生长步骤 | 第57-58页 |
| ·外延片生长的主要设备 | 第58-59页 |
| ·外延片的质量测试 | 第59-62页 |
| ·X射线双晶衍射仪(XRD) | 第59-60页 |
| ·荧光光谱(PL)仪 | 第60-61页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第61-62页 |
| ·后工艺制备 | 第62-65页 |
| ·实验准备工作 | 第62页 |
| ·前期实验工作 | 第62-63页 |
| ·电子束曝光系统 | 第63页 |
| ·UV光刻机 | 第63-64页 |
| ·电感耦合等离子体刻蚀(ICP)系统 | 第64页 |
| ·磁控溅射设备 | 第64-65页 |
| ·器件测试 | 第65页 |
| ·光波器件分析仪 | 第65页 |
| ·矢量网络分析仪 | 第65页 |
| ·波导型光探测器的量子效率测试结果 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 作者攻读硕士研究生期间发表的论文 | 第71页 |