基于PDMS的光栅制备工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第9-12页 |
| ·光栅研究的发展史 | 第9页 |
| ·纳米光栅 | 第9-10页 |
| ·当代纳米光栅制作工艺 | 第10-12页 |
| ·光栅制备工艺国内外研究现状 | 第12-14页 |
| ·国外研究现状 | 第12-13页 |
| ·国内研究现状 | 第13-14页 |
| ·本文主要研究内容 | 第14-16页 |
| 2 光栅研究的理论基础 | 第16-25页 |
| ·光栅的理论研究 | 第16-22页 |
| ·光栅的分类 | 第16-17页 |
| ·光栅理论 | 第17-18页 |
| ·光栅方程 | 第18-19页 |
| ·光栅的主要参数 | 第19-20页 |
| ·光栅的基本性质 | 第20-21页 |
| ·光栅的应用 | 第21-22页 |
| ·薄膜拉伸理论研究 | 第22-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 薄膜拉伸的 Ansys 仿真 | 第25-32页 |
| ·Ansys 软件 | 第25-27页 |
| ·有限元分析法 | 第25页 |
| ·ANSYS 软件 | 第25-26页 |
| ·Ansys 的基本功能 | 第26-27页 |
| ·薄膜拉伸仿真 | 第27-30页 |
| ·结果与分析 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 4 纳米光栅的加工工艺 | 第32-47页 |
| ·光栅模板的制备 | 第32-38页 |
| ·光刻技术简介 | 第32页 |
| ·光刻胶简介 | 第32-33页 |
| ·备片 | 第33-34页 |
| ·匀胶 | 第34-35页 |
| ·前烘 | 第35页 |
| ·曝光操作 | 第35-36页 |
| ·显影 | 第36-37页 |
| ·后烘 | 第37-38页 |
| ·内嵌式 PDMS 薄膜光栅的制备 | 第38-40页 |
| ·PDMS 薄膜的拉伸 | 第40-42页 |
| ·压印 PMMA 光栅 | 第42-44页 |
| ·PMMA 简介 | 第42页 |
| ·纳米压印技术 | 第42-44页 |
| ·压印过程 | 第44页 |
| ·纳米光栅的制备 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 5 光栅的测试及分析 | 第47-53页 |
| ·拉伸结果对比 | 第47-49页 |
| ·光栅常数与 PDMS 薄膜伸长量的关系 | 第49-50页 |
| ·光栅衍射图样的观察 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 6 总结与展望 | 第53-55页 |
| ·研究工作总结 | 第53页 |
| ·工作展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
