创新之处 | 第1-6页 |
中文摘要 | 第6-7页 |
英文摘要 | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第8-26页 |
§1.1 纳米材料 | 第8-10页 |
·小尺寸效应 | 第9页 |
·表面效应 | 第9页 |
·量子尺寸效应 | 第9页 |
·宏观量子隧道效应 | 第9-10页 |
·介电限域效应 | 第10页 |
§1.2 一维纳米材料的气-液-固(VLS)生长机理 | 第10-17页 |
·气-液-固(VLS)生长模型的提出 | 第10-12页 |
·VLS生长机理的发展 | 第12-17页 |
·VLS生长机理的唯象证据 | 第12-13页 |
·VLS生长机理的成核和生长的定量动力学研究 | 第13-15页 |
·VLS生长过程的热力学——相图 | 第15-17页 |
§1.3 拓展的VLS生长模型 | 第17-18页 |
§1.4 相平衡主导的VLS生长机理 | 第18-21页 |
§1.5 本论文的研究思路 | 第21-22页 |
参考文献 | 第22-26页 |
第二章 相平衡主导的VLS生长机理新证据 | 第26-39页 |
§2.1 概述 | 第26-27页 |
§2.2 实验部分 | 第27-28页 |
·原料 | 第27-28页 |
·合成 | 第28页 |
·表征及分析仪器 | 第28页 |
§2.3 结果与讨论 | 第28-37页 |
·原料组成表征 | 第28-29页 |
·不同反应条件下产物的产物形貌及组成表征 | 第29-34页 |
·反应条件(a)产物的形貌演变 | 第30页 |
·反应条件(a)产物的XRD分析 | 第30-32页 |
·反应条件(b)产物的形貌演变 | 第32页 |
·反应条件(b)产物的XRD分析 | 第32-33页 |
·反应条件(c)产物的XRD分析 | 第33-34页 |
·氮化过程的TG-DTA分析 | 第34-37页 |
·Si_3N_4一维纳米结构的生长过程分析 | 第37页 |
§2.4 本章小结 | 第37-38页 |
参考文献 | 第38-39页 |
第三章 AlN纳米线生长动力学研究 | 第39-58页 |
§3.1 概述 | 第39-41页 |
§3.2 实验部分 | 第41-42页 |
·原料 | 第41页 |
·合成与热分析测试 | 第41-42页 |
·合成 | 第41页 |
·热分析测试 | 第41-42页 |
·表征及分析仪器 | 第42页 |
§3.3 结果与讨论 | 第42-56页 |
·产物的形貌 | 第42-43页 |
·产物的组成 | 第43页 |
·热分析动力学数据 | 第43-45页 |
·动力学处理 | 第45-56页 |
·积分Ozawa法 | 第45-46页 |
·微分Kissinger法 | 第46-47页 |
·微分Achar、Brindley和Shap法 | 第47-56页 |
§3.4 本章小结 | 第56-58页 |
展望 | 第58-59页 |
攻读硕士学位期间概况 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |