| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| ·纳米材料 | 第13-14页 |
| ·纳米材料的基本物理化学特性 | 第14-16页 |
| ·电学性质 | 第14页 |
| ·热学性能 | 第14-15页 |
| ·化学活性 | 第15页 |
| ·力学性能 | 第15页 |
| ·光学性质 | 第15-16页 |
| ·宽频带强吸收 | 第16页 |
| ·蓝移现象 | 第16页 |
| ·其它光学性能 | 第16页 |
| ·纳米材料的磁学性质 | 第16页 |
| ·纳米材料的分类 | 第16-19页 |
| ·按照空间维数来划分 | 第17页 |
| ·根据纳米材料的来源分类 | 第17页 |
| ·依据纳米材料的化学组成分类 | 第17-18页 |
| ·根据纳米材料的功能分类 | 第18-19页 |
| ·纳米材料的发展趋势 | 第19-20页 |
| ·纳米材料制备技术的种类和进展 | 第20-21页 |
| ·制备纳米粒子的物理方法 | 第21-22页 |
| ·机械粉碎法 | 第21页 |
| ·蒸发凝聚法 | 第21页 |
| ·离子溅射法 | 第21页 |
| ·冷冻干燥法 | 第21页 |
| ·球磨法 | 第21-22页 |
| ·制备纳米粒子的化学方法 | 第22-23页 |
| ·气相化学反应法 | 第22页 |
| ·沉淀法 | 第22页 |
| ·水热合成法 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22页 |
| ·模板稳定法 | 第22-23页 |
| ·纳米材料的表征 | 第23-25页 |
| ·透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，TEM） | 第24页 |
| ·扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，SEM） | 第24页 |
| ·X 射线衍射法（X-Ray Diffraction，XRD) | 第24-25页 |
| ·红外光谱（Infrared Spectroscopy，IR） | 第25页 |
| ·X 射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS) | 第25页 |
| ·贵金属纳米催化剂研究进展 | 第25-29页 |
| ·贵金属纳米催化剂的催化应用 | 第26-27页 |
| ·贵金属纳米催化剂的形貌 | 第27-29页 |
| ·本论文的研究设想 | 第29-31页 |
| 第二章 一氧化碳还原法合成凹四面体钯纳米晶 | 第31-46页 |
| ·实验部分 | 第31-34页 |
| ·试剂及仪器 | 第31-32页 |
| ·实验方法 | 第32-34页 |
| ·凹四面体钯纳米颗粒的制备 | 第32-33页 |
| ·UV-vis 吸收光谱分析 | 第33页 |
| ·TEM 测试 | 第33页 |
| ·XRD 分析 | 第33页 |
| ·XPS 表征 | 第33页 |
| ·一氧化碳溶出(CO Stripping)伏安实验 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-44页 |
| ·UV-vis 分析 | 第34页 |
| ·TEM 表征 | 第34-35页 |
| ·XRD 表征 | 第35-36页 |
| ·XPS 表征 | 第36-37页 |
| ·CO Stripping | 第37-38页 |
| ·反应温度和凹四面体钯纳米晶的关系 | 第38-39页 |
| ·反应时间对凹四面体钯纳米晶的影响 | 第39-40页 |
| ·前躯体浓度对凹四面体钯纳米晶的影响 | 第40-42页 |
| ·一氧化碳和氢气还原钯纳米颗粒的对比 | 第42-43页 |
| ·一氧化碳流速对凹四面体钯纳米晶的影响 | 第43-44页 |
| ·反应机理的探讨 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第三章 控制合成四菱形钯纳米晶 | 第46-60页 |
| ·实验部分 | 第46-48页 |
| ·试剂及仪器 | 第46-47页 |
| ·实验方法 | 第47-48页 |
| ·钯纳米晶体颗粒的制备 | 第47-48页 |
| ·UV-vis 吸收光谱分析 | 第48页 |
| ·TEM 测试 | 第48页 |
| ·XRD 分析 | 第48页 |
| ·XPS 测量 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-58页 |
| ·UV-vis 分析 | 第48-49页 |
| ·TEM 表征 | 第49-50页 |
| ·XRD 表征 | 第50-51页 |
| ·XPS 表征 | 第51-52页 |
| ·反应温度对四菱形纳米钯合成的影响 | 第52-53页 |
| ·反应时间对合成四菱形纳米钯的影响 | 第53-54页 |
| ·羧酸根在四菱形钯纳米晶合成中的作用 | 第54-56页 |
| ·一氧化碳流速对四菱形纳米钯的影响 | 第56-58页 |
| ·反应机理的探讨 | 第58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第四章 控制合成四角枝状金属钯纳米晶 | 第60-74页 |
| ·实验部分 | 第60-62页 |
| ·试剂及仪器 | 第60-61页 |
| ·实验方法 | 第61-62页 |
| ·四角枝钯纳米颗粒的制备 | 第61-62页 |
| ·TEM 测试 | 第62页 |
| ·XRD 测试 | 第62页 |
| ·XPS 测试 | 第62页 |
| ·结果与讨论 | 第62-72页 |
| ·TEM 测试 | 第62-63页 |
| ·XRD 表征 | 第63-64页 |
| ·XPS 表征 | 第64页 |
| ·反应温度对四角枝纳米钯合成的影响 | 第64-66页 |
| ·反应时间对合成四角枝纳米钯影响 | 第66-67页 |
| ·PVP 对四角枝纳米钯合成的影响 | 第67-68页 |
| ·SDS 对四角枝纳米钯合成的影响 | 第68-70页 |
| ·一氧化碳对四角枝纳米钯合成的影响 | 第70-72页 |
| ·前躯体用量对四角枝纳米钯合成的影响 | 第72页 |
| ·反应机理的探讨 | 第72-73页 |
| ·小结 | 第73-74页 |
| 第五章 钯纳米晶对甲酸氧化的电催化性能 | 第74-81页 |
| ·实验部分 | 第74-77页 |
| ·试剂及仪器 | 第74-76页 |
| ·实验方法 | 第76-77页 |
| ·四菱形钯纳米晶体颗粒的制备 | 第76页 |
| ·四角枝钯纳米晶体颗粒的制备 | 第76页 |
| ·溶剂稳定的钯纳米粒子的制备 | 第76页 |
| ·钯纳米颗粒对玻炭电极的修饰 | 第76-77页 |
| ·钯纳米催化剂电催化氧化甲酸测试 | 第77页 |
| ·TEM 测试 | 第77页 |
| ·XPS 测试 | 第77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-80页 |
| ·TEM 测试 | 第77-78页 |
| ·XPS 表征 | 第78-79页 |
| ·电催化氧化甲酸循环伏安 | 第79-80页 |
| ·小结 | 第80-81页 |
| 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 附录A 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第92页 |
