| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·薄膜光学的发展现状 | 第7-9页 |
| ·研究背景和内容 | 第9-11页 |
| 第二章 薄膜光学的理论基础及设计方法 | 第11-20页 |
| ·光学薄膜的多光束干涉原理 | 第11-14页 |
| ·光学薄膜的基本设计方法 | 第14-17页 |
| ·光学薄膜特性计算 | 第17-20页 |
| 第三章 光学薄膜材料的选择 | 第20-23页 |
| 第四章 膜系设计 | 第23-29页 |
| ·膜系的优化设计及优化方法 | 第23-25页 |
| ·膜系设计方案的选择 | 第25-29页 |
| 第五章 薄膜的制备 | 第29-43页 |
| ·镀制薄膜的设备 | 第29-30页 |
| ·工艺因素 | 第30-31页 |
| ·离子源 | 第31-34页 |
| ·膜层厚度的监控 | 第34-37页 |
| ·石英晶体控制装置 MDC-360C内部参数的获得 | 第37-38页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第38-40页 |
| ·测试结果与分析 | 第40-42页 |
| ·膜层性能的测试 | 第42-43页 |
| 总结 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45页 |