| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·超硬膜 | 第10-13页 |
| ·超硬膜的定义 | 第10-11页 |
| ·超硬膜的种类 | 第11-12页 |
| ·超硬膜的研究进展 | 第12-13页 |
| ·超硬膜的发展前景 | 第13页 |
| ·纳米复合膜 | 第13-18页 |
| ·纳米复合膜的发展概况 | 第14-15页 |
| ·纳米多层结构膜 | 第15-16页 |
| ·纳米晶复合膜 | 第16-17页 |
| ·超硬纳米复合膜 | 第17-18页 |
| ·纳米复合膜的发展方向 | 第18页 |
| ·超硬膜的制备技术 | 第18-20页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第20-22页 |
| ·多弧离子镀的发展与应用 | 第20-21页 |
| ·多弧离子镀的特点 | 第21页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第21页 |
| ·多弧离子镀工艺参数 | 第21-22页 |
| ·课题研究的意义及内容 | 第22-25页 |
| ·课题研究的现实意义 | 第22-24页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第24-25页 |
| ·课题研究的技术路线 | 第25-26页 |
| 第2章 实验设备及实验方案 | 第26-32页 |
| ·镀膜设备 | 第26-27页 |
| ·实验材料 | 第27页 |
| ·实验样品的镀前处理 | 第27页 |
| ·试样安放位置 | 第27页 |
| ·实验方案 | 第27-29页 |
| ·实验流程 | 第27-28页 |
| ·实验控制参数 | 第28-29页 |
| ·膜层性能测试 | 第29页 |
| ·膜层厚度的测量 | 第29页 |
| ·膜层硬度的测量 | 第29页 |
| ·膜层显微结构的分析 | 第29-30页 |
| ·微观形貌观察 | 第29-30页 |
| ·膜层相组成及择优取向分析 | 第30页 |
| ·超硬纳米复合多层膜的设计及制备工艺 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第32-60页 |
| ·TiN/Cu 纳米复合多层膜显微结构的分析 | 第32-38页 |
| ·微观形貌 | 第32-36页 |
| ·TiN/Cu 复合多层膜的相组成 | 第36-38页 |
| ·不同位置复合多层膜的厚度及硬度分布 | 第38-42页 |
| ·Cu 靶开启方式对硬度的影响 | 第42-52页 |
| ·Cu 靶间隔开启时间与硬度的关系 | 第42-46页 |
| ·Cu 靶燃弧时间与硬度的关系 | 第46-52页 |
| ·Cu 靶开启方式对晶粒择优取向的影响 | 第52-54页 |
| ·Cu 靶间隔开启时间与晶粒择优取向的关系 | 第52-54页 |
| ·Cu 靶燃弧时间与晶粒择优取向的关系 | 第54页 |
| ·复合多层膜硬度与Cu 元素含量的关系 | 第54-55页 |
| ·复合多层膜硬度与晶粒择优取向的关系 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第4章 TiN/Cu 纳米复合多层膜致硬机理的探讨 | 第60-72页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第60-61页 |
| ·超硬膜的择优取向生长 | 第61-63页 |
| ·纳米复合膜的晶粒尺寸 | 第63-65页 |
| ·TiN/Cu 超硬纳米复合多层膜致硬机理初探 | 第65-69页 |
| ·本章小结 | 第69-72页 |
| 第5章 TiN-Cu 共沉积制备超硬复合膜的初探 | 第72-82页 |
| ·TiN-Cu 共沉积复合膜的微观形貌 | 第72-74页 |
| ·表面形貌 | 第72-73页 |
| ·断口形貌 | 第73-74页 |
| ·TiN-Cu 共沉积复合膜的 EDS 能谱 | 第74-76页 |
| ·TiN-Cu 共沉积复合膜的相组成 | 第76-78页 |
| ·TiN-Cu 共沉积复合膜的硬度 | 第78页 |
| ·TiN-Cu 共沉积复合膜致硬机理的初步分析 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-82页 |
| 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第90-92页 |
| 致谢 | 第92页 |