| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-24页 |
| ·引言 | 第15-17页 |
| ·有机电致发光器件的研究进展 | 第17-21页 |
| ·OLED器件存在的问题 | 第21-22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-24页 |
| 第二章 直流磁控溅射ITO薄膜 | 第24-47页 |
| ·ITO薄膜的性质、应用和研究意义 | 第24-27页 |
| ·ITO薄膜结构和性质 | 第24-25页 |
| ·ITO薄膜的应用 | 第25-27页 |
| ·研究意义 | 第27页 |
| ·溅射镀膜方法 | 第27-29页 |
| ·实验 | 第29-35页 |
| ·实验设备 | 第29-31页 |
| ·实验方法 | 第31-33页 |
| ·正交实验法原理 | 第31-32页 |
| ·正交实验设计 | 第32-33页 |
| ·ITO膜的制备工艺流程 | 第33-34页 |
| ·基片的清洗 | 第33-34页 |
| ·基片的预溅射 | 第34页 |
| ·溅射ITO膜 | 第34页 |
| ·薄膜测试 | 第34-35页 |
| ·正交实验结果与分析 | 第35-46页 |
| ·溅射压强和氩氧比例对薄膜性能的影响 | 第36-39页 |
| ·溅射压强和氩氧比例对ITO薄膜方阻的影响 | 第36-37页 |
| ·氩氧比例对ITO薄膜表面形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·溅射压强和氩氧比例对ITO薄膜光学性能的影响 | 第39页 |
| ·衬底温度和退火温度对薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| ·衬底温度和退火温度对薄膜方阻的影响 | 第39-41页 |
| ·衬底温度和退火温度对薄膜光学性能的影响 | 第41-42页 |
| ·衬底温度和退火温度对薄膜结晶性的影响 | 第42页 |
| ·其它因素对薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| ·退火时间和退火氛围对薄膜方阻的影响 | 第42-43页 |
| ·溅射功率和靶基间距对薄膜性能的影响 | 第43-45页 |
| ·薄膜的均匀性 | 第45页 |
| ·正交实验最佳工艺参数 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 高分辨率OLED基板图案制备 | 第47-70页 |
| ·光学光刻技术概述 | 第47-51页 |
| ·光刻概念 | 第47-48页 |
| ·光刻工艺 | 第48-50页 |
| ·刻蚀工艺 | 第50-51页 |
| ·光掩膜设计 | 第51-55页 |
| ·选用芯片 | 第51-53页 |
| ·图案设计 | 第53-55页 |
| ·四层图案的制备 | 第55-67页 |
| ·仪器和试剂 | 第55页 |
| ·铬层、ITO层和绝缘层图案制备 | 第55-59页 |
| ·隔离器层图案 | 第59-67页 |
| ·光敏聚酰亚胺做隔离器 | 第60-61页 |
| ·正胶AZ5214做隔离器 | 第61-67页 |
| ·双隔离器技术 | 第67-68页 |
| ·本章小节 | 第68-70页 |
| 第四章 线形蒸发源的模拟和设计 | 第70-86页 |
| ·点蒸发源的蒸发特性 | 第71-73页 |
| ·线形蒸发源的模拟 | 第73-82页 |
| ·基板静止时线源膜厚模拟 | 第75-77页 |
| ·基板运动时线源膜厚模拟 | 第77-82页 |
| ·线形蒸发源的设计 | 第82-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第五章 绿色磷光器件的制备与表征 | 第86-119页 |
| ·引言 | 第86-89页 |
| ·磷光材料的优势 | 第86-88页 |
| ·绿光磷光材料及器件的发展 | 第88-89页 |
| ·掺杂结构中主客体能量转移 | 第89-99页 |
| ·无辐射能量转移 | 第90-92页 |
| ·库仑转移机理——F(o|¨)rster理论 | 第92-95页 |
| ·交换转移机理——Dexter理论 | 第95-97页 |
| ·F(o|¨)rster理论与Dexter理论的对比 | 第97-99页 |
| ·磷光材料的合成和表征 | 第99-104页 |
| ·合成路线 | 第99-100页 |
| ·材料的表征 | 第100-104页 |
| ·吸收光谱和带隙 | 第100-101页 |
| ·PL光谱和表面形貌 | 第101-102页 |
| ·材料的能级 | 第102-104页 |
| ·器件制备与性能表征 | 第104-117页 |
| ·器件制备与测试 | 第104-105页 |
| ·小分子器件 | 第105-113页 |
| ·器件I-V性能 | 第107-109页 |
| ·器件的L-V特性 | 第109-110页 |
| ·器件的发光光谱 | 第110-111页 |
| ·器件的效率 | 第111-113页 |
| ·聚合物器件 | 第113-116页 |
| ·器件的J-V-L特性 | 第114-115页 |
| ·器件的发光光谱 | 第115页 |
| ·器件的效率 | 第115-116页 |
| ·MOLED与PLED的性能比较 | 第116-117页 |
| ·本章小节 | 第117-119页 |
| 第六章 黄色磷光器件的制备与表征 | 第119-144页 |
| ·黄色磷光器件的发展 | 第119-120页 |
| ·黄光磷光材料的合成与表征 | 第120-123页 |
| ·材料合成路线 | 第120-121页 |
| ·材料的升华 | 第121页 |
| ·材料的表征 | 第121-123页 |
| ·器件制备与性能表征 | 第123-142页 |
| ·器件制备与测试 | 第123页 |
| ·器件结构和有机材料 | 第123-124页 |
| ·有机器件的电学特性 | 第124-128页 |
| ·不同发光层厚度的器件特性 | 第128-134页 |
| ·器件的J-V特性 | 第128-131页 |
| ·L-V特性 | 第131-132页 |
| ·器件的光谱和效率 | 第132-134页 |
| ·不同掺杂浓度器件 | 第134-139页 |
| ·NPB为主体材料的磷光器件 | 第139-142页 |
| ·本章小节 | 第142-144页 |
| 第七章 有机白光器件的制备和表征 | 第144-169页 |
| ·有机电致白光器件概述 | 第144-148页 |
| ·有机白光器件的制备方法 | 第144-146页 |
| ·表征有机白光器件性能的几个重要参数 | 第146-148页 |
| ·色度学原理与白色平衡 | 第148-153页 |
| ·人眼的辨色机理 | 第149页 |
| ·彩色显示技术中的三基色原理 | 第149-150页 |
| ·三刺激值与色品坐标 | 第150-153页 |
| ·白光器件的制备与性能表征 | 第153-168页 |
| ·黄蓝光混合得到白光的依据 | 第153-157页 |
| ·格拉斯曼定律 | 第153-154页 |
| ·计算法 | 第154-155页 |
| ·作图法 | 第155-157页 |
| ·器件制备 | 第157页 |
| ·以NPB为蓝色发光层的白光器件 | 第157-162页 |
| ·J-V-L特性 | 第157-159页 |
| ·器件的光谱和色坐标 | 第159-161页 |
| ·器件的功率效率 | 第161-162页 |
| ·以GDI691为蓝色发光层的白光器件 | 第162-168页 |
| ·J-V-L特性 | 第163-164页 |
| ·器件的效率 | 第164-165页 |
| ·器件的光谱和色坐标 | 第165-167页 |
| ·器件的寿命 | 第167-168页 |
| ·本章小节 | 第168-169页 |
| 第八章 结论 | 第169-172页 |
| 致谢 | 第172-173页 |
| 参考文献 | 第173-190页 |
| 博士在学期间的研究成果 | 第190-192页 |